[实用新型]一种用于触摸屏的ITO膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于触摸屏的ITO膜，属于电子屏幕的技术领域。

背景技术

ITO（Indium Tin Oxides，铟锡金属氧化物），作为一种典型的N型氧化物半导体被广泛地运用在手机、MP3、MP4、数码相机等领域。

制备ITO镀膜的方法有很多，一般为ITO粉体通过气相沉积法将ITO沉积到玻璃、金属等基体表面，形成一薄膜层。 

发明内容

为了克服上述缺陷，本实用新型的目的在于提供一种有利于工业化、连续化生产的需要的用于触摸屏的ITO膜。

为了达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：一种用于触摸屏的ITO膜，该膜包括透明基体和镀覆在所述透明基体上的膜层，所述膜层包括自透明基体上表面依次向上排列的底层、中间层和第一面层。

所述底层、中间层和第一面层均为单层结构。

所述透明基体的厚度为50-188μm，所述透明基体为聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚亚胺。

所述底层为SiO₂或Al₂O₃；所述中间层为Si₃N₄或Nb₂O₅；所述第一面层为ITO层。

本实用新型的有益效果：

本实用新型率先采用真空磁控溅射法制备柔性ITO薄膜，通过磁控溅射将ITO薄膜沉积在柔性基体上，再通过贴合等技术至基体上。由此方法制备的ITO薄膜不仅附着力好，性能优异，而且有利于工业化连续生产，大大提高了生产效率，为工业化生产的首选。 

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进行详细说明：

一种用于触摸屏的ITO膜，该膜包括透明基体1和镀覆在所述透明基体上的膜层，所述膜层包括自透明基体1上表面依次向上排列的底层2、中间层3和第一面层4。

所述底层2、中间层3和第一面层4均为单层结构。

所述透明基体1的厚度为50-188μm，所述透明基体1为聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚亚胺。

所述底层2为SiO₂或Al₂O₃；所述中间层3为Si₃N₄或Nb₂O₅；所述第一面层4为ITO层。