[发明专利]等离子处理装置有效
申请号: | 201280006986.2 | 申请日: | 2012-02-02 |
公开(公告)号: | CN103459651A | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 胜俣和彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社IHI;IHI机械系统股份有限公司 |
主分类号: | C23C8/36 | 分类号: | C23C8/36;C21D1/09;C21D1/773;F27D11/08 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 朱美红;杨楷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 处理 装置 | ||
1.一种等离子处理装置,在真空炉内部,对由金属材料构成的被处理物进行通过等离子的表面改性,其特征在于,
具备:第1供电装置,对上述被处理物外加第1电压;和第2供电装置,对相对于上述被处理物对置配置的金属体外加与上述第1电压不同的第2电压;
上述第1供电装置及上述第2供电装置的至少任一方由可动式供电装置构成,所述可动式供电装置能够在上述真空炉内部移动。
2.如权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于,
上述可动式供电装置具备导电性的棒部件和导电性的绳部件,所述棒部件从真空炉外部插通在真空炉内部,所述绳部件连结在棒部件上。
3.如权利要求2所述的等离子处理装置,其特征在于,
上述绳部件设置有多根。
4.如权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于,
上述可动式供电装置配置在比上述真空炉的中央靠开闭门附近。
5.如权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于,
被上述第2供电装置外加第2电压的金属体是能够拆装的电极,所述电极能够向上述真空炉的内部取放。
6.如权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于,
在上述真空炉内部载置上述被处理物的载置部被绝缘。
7.如权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于,
具备:设置在上述真空炉内部的加热器、对上述真空炉内部供给渗碳气体的渗碳气体供给装置、和将上述真空炉内部冷却的冷却装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社IHI;IHI机械系统股份有限公司,未经株式会社IHI;IHI机械系统股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280006986.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类