[发明专利]具有加热器与快速温度变化的基板支撑件有效
申请号: | 201280007812.8 | 申请日: | 2012-01-26 |
公开(公告)号: | CN103370778A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 利昂·沃尔福夫斯基;马尤尔·G·库尔卡尼;亚历克斯·明科维奇 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/68;H05B3/20;G02F1/13 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 加热器 快速 温度 变化 支撑 | ||
1.一种基板支撑件,包括:
第一构件,当基板位于所述第一构件的第一表面上方时,所述第一构件用以散布热至所述基板;
加热器,所述加热器设置于所述第一构件下方,且所述加热器具有一或多个加热区域以提供热至所述第一构件;
多个冷却通道,所述多个冷却通道设置于所述第一构件下以移除所述加热器提供的热;
多个基板支撑销,所述多个基板支撑销设置在所述第一构件的所述第一表面上的第一距离处,当基板位于所述基板支撑件上时,所述多个基板支撑销用以支撑所述基板的背侧表面;及
对准引导件,所述对准引导件自所述第一构件的所述第一表面延伸并围绕所述多个基板支撑销。
2.如权利要求1所述的基板支撑件,其中所述多个基板支撑销的各个基板支撑销自所述第一构件的所述第一表面延伸。
3.如权利要求2所述的基板支撑件,其中所述第一构件、所述多个基板支撑销与所述对准引导件是由相同材料所形成。
4.如权利要求1所述的基板支撑件,所述基板支撑件还包括:
支撑层,所述支撑层设置在所述第一构件的所述第一表面上,其中所述多个基板支撑销的各个基板支撑销自所述支撑层的表面延伸。
5.如权利要求4所述的基板支撑件,其中所述多个基板支撑销的各个基板支撑销与所述支撑层是由相同材料所形成。
6.如权利要求1-5任一项所述的基板支撑件,其中所述加热器包括:
多个电阻式加热元件,其中所述一或多个加热区域的各个加热区域包括所述多个电阻式加热元件的一或多个电阻式加热元件。
7.如权利要求6所述的基板支撑件,所述基板支撑件还包括:
第二构件,所述第二构件设置于所述第一构件下,其中所述多个电阻式加热元件的各个电阻式加热元件设置邻近所述第二构件的上表面,且其中所述多个冷却通道的各个冷却通道平行于所述上表面设置于所述第二构件中。
8.如权利要求6所述的基板支撑件,所述基板支撑件还包括:
第二构件,所述第二构件设置于所述第一构件下,其中所述多个冷却通道的各个冷却通道平行于上表面设置在所述第二构件中,且其中所述多个电阻式加热元件的各个电阻式加热元件设置于所述第二构件中且所述多个电阻式加热元件的各个电阻式加热元件位于所述多个冷却通道的各个冷却通道下方。
9.如权利要求6所述的基板支撑件,所述基板支撑件还包括:
第一层,所述第一层具有多个电阻式加热元件形成于所述第一层中;及
第二层,所述第二层具有所述多个冷却通道的各个冷却通道形成于所述第二层中。
10.如权利要求9所述的基板支撑件,其中所述多个冷却通道的各个冷却通道形成于所述第二层的上表面中,并且其中所述第一层的下表面接触所述第二层的所述上表面以形成所述多个冷却通道。
11.如权利要求9所述的基板支撑件,其中所述多个冷却通道的各个冷却通道形成在所述第二层的所述上表面中,并且其中所述第二层的所述上表面接触所述第一构件的下表面以形成所述多个冷却通道。
12.如权利要求6所述的基板支撑件,其中所述一或多个加热区域围绕所述基板支撑件的中央轴对称地设置。
13.如权利要求12所述的基板支撑件,其中所述一或多个加热区域还包括:
第一加热区域,所述第一加热区域具有第一半径,所述第一半径沿着所述第二构件的所述上表面自所述中央轴延伸;
第二加热区域,所述第二加热区域设置围绕所述第一加热区域;及
多个第三加热区域,所述多个第三加热区域设置围绕所述第二加热区域。
14.如权利要求1-13任一项所述的基板支撑件,所述基板支撑件还包括:
第三构件,所述第三构件设置在所述一或多个加热区域与所述多个冷却通道下。
15.如权利要求14所述的基板支撑件,其中所述第三构件是热沉。
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