[发明专利]气液分离器及制冷循环装置有效
申请号: | 201280007936.6 | 申请日: | 2012-02-02 |
公开(公告)号: | CN103348203A | 公开(公告)日: | 2013-10-09 |
发明(设计)人: | 长谷川宽;冈市敦雄;咲间文顺;小须田修;奥村拓也 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | F25B43/00 | 分类号: | F25B43/00;F25B1/00;F25B1/10;F25B13/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 雒运朴 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分离器 制冷 循环 装置 | ||
1.一种气液分离器,其中,具备:
密闭容器,其包括上覆盖部、筒状部以及下覆盖部,所述上覆盖部在使朝向上方喷射的气液二相流体扩散的同时对该气液二相流体朝向下方进行诱导,由此使所述气液二相流体中所包含的液体附着于内侧面而将所述气液二相流体转换为包括液体层和富气层的双层流,所述筒状部使所述液体层沿着内周面流下,所述下覆盖部保持所述液体层而形成储液部;
引导构件,其配置在所述密闭容器内,在该引导构件与所述上覆盖部之间形成有流入空间且在该引导构件与所述筒状部的内周面之间形成有使所述双层流通过的流通路,并且所述引导构件以使所述富气层沿着所述筒状部的内周面流下的方式对所述富气层进行引导;
第一配管,其以前端向所述流入空间内开口的方式贯通所述下覆盖部及所述引导构件并进行延伸,且在浸于所述储液部的部分设有液体出口孔;
第二配管,其以前端向所述流入空间内开口的方式贯通所述下覆盖部及所述引导构件并进行延伸,且在浸于所述储液部的部分设有液体出口孔;
气体出口管,其用于使借助所述液体层的表面张力从所述富气层中除去了液体而得到的气体向所述密闭容器的外部流出,
所述第一配管及所述第二配管构成为,无论在哪一方使所述气液二相流体从所述密闭容器的外部向所述流入空间流入时,另一方都使液面形成在比内部的所述液体出口孔更靠上侧的位置且同时使所述储液部的液体从所述液体出口孔向所述密闭容器的外部流出。
2.如权利要求1所述的气液分离器,其中,
所述引导构件具有与所述筒状部的内周面对置且朝向下方扩径的锥形状的外周面。
3.如权利要求1或2所述的气液分离器,其中,
所述引导构件具有朝向下方开口的容器状的形状,且所述气体出口管的前端位于由所述引导构件包围的空间内。
4.如权利要求3所述的气液分离器,其中,
所述气体出口管以使该气体出口管的前端朝向所述第一配管及所述第二配管中的至少一方而横向开口的方式贯通所述筒状部及所述引导构件并进行延伸。
5.如权利要求4所述的气液分离器,其中,
在所述气体出口管的前端开口的方向上的、从所述气体出口管的前端到所述第一配管或者所述第二配管的距离为所述气体出口管的外径的0.5倍以上且1.5倍以下。
6.如权利要求3所述的气液分离器,其中,
所述气体出口管以使该气体出口管的前端朝向下方开口的方式贯通所述上覆盖部及所述引导构件并进行延伸。
7.如权利要求1~6中任一项所述的气液分离器,其中,
还具备分隔构件,该分隔构件设置成将所述流入空间上下分割,通过在使朝向上方喷射的气液二相流体扩散的同时对该气液二相流体朝向下方进行诱导,由此使所述气液二相流体中所包含的液体附着于内侧面而将所述气液二相流体转换为液体层和富气层的双层流,
所述第一配管及所述第二配管中的任一方贯通所述分隔构件。
8.如权利要求1~6中任一项所述的气液分离器,其中,
还具备流入隔壁,该流入隔壁将所述流入空间分隔为所述第一配管侧和所述第二配管侧。
9.如权利要求1~8中任一项所述的气液分离器,其中,
还具备流出隔壁,该流出隔壁将所述储液部分隔为所述第一配管侧和所述第二配管侧。
10.如权利要求1~9中任一项所述的气液分离器,其中,
所述第一配管及所述第二配管实质上呈直线状。
11.如权利要求1~10中任一项所述的气液分离器,其中,
在所述第一配管及所述第二配管的内侧分别配设有以能够沿着轴向滑动的方式与所述第一配管或者所述第二配管嵌合的管状的可动阀,
所述可动阀通常在重力的作用下位于将所述液体出口孔打开的第一位置,在使所述气液二相流体通过时,所述可动阀在所述气液二相流体的作用下被抬起而向将所述液体出口孔堵塞的第二位置移动。
12.如权利要求1~11中任一项所述的气液分离器,其中,
还具备筒状的分离构件,该筒状的分离构件配设在所述流通路的下方且沿着所述筒状部的内周面,能够使所述液体层的表面积比该内周面更为扩张。
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