[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

供应滚筒，送出形成为带状且具有挠性的基板；

回收滚筒，卷取从前述供应滚筒送出的前述基板；

腔室，包围位于从前述供应滚筒送出且以前述回收滚筒卷取之间的前述基板的一部分；

处理部，对收容于前述腔室、以前述腔室包围的前述基板的一部分进行处理；以及

驱动部，使前述供应滚筒及前述回收滚筒与前述腔室及前述处理部相对移动，以在相对从前述供应滚筒往前述回收滚筒的前述基板的运送方向交叉的方向，将前述基板的一部分搬入及搬出于前述腔室的内部。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，前述腔室被设成能分离为第一部分和第二部分，其中，第一部分配置于前述基板的第一面一侧，而第二部分配置于前述基板的第二面一侧。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，进一步具备支承前述供应滚筒与前述回收滚筒的载台；

前述第一部分支承于前述载台。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，前述载台具有支承前述第一部分的支承部；

前述支承部，在前述基板的移动方向夹着前述供应滚筒与前述回收滚筒的位置设有一对。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，进一步具备使前述第一部分与前述第二部分相对移动于前述第一部分与前述第二部分彼此分离的方向的第二驱动部；

前述第二驱动部，与前述基板的搬入或搬出同步地进行前述第一部分与前述第二部分的相对移动。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，前述第一部分及前述第二部分中的至少一方具有使内部空间开放及关闭的开闭部。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，进一步具备能分别调整前述第一部分的前述内部空间的压力与前述第二部分的前述内部空间的压力的压力调整部。

8.根据权利要求6或7所述的基板处理装置，其特征在于，前述第一部分及前述第二部分分别具有能彼此安装的突缘部；

前述开闭部具有能移动的滑动构件；

前述突缘部具有收容前述滑动构件的收容部。

9.根据权利要求1至8项中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，前述腔室具有使前述基板通过前述基板的移动方向两端的壁部的通过部。

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，进一步具备设于前述通过部、检测前述基板的光感测器。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，前述处理部具有对前述基板转印涂布液的转印滚筒。

12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于，前述处理部具有将前述基板往前述转印滚筒按压的3个按压滚筒。

13.根据权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于，前述3个按压滚筒彼此位置固定。

14.根据权利要求12或13所述的基板处理装置，其特征在于，前述3个按压滚筒设置成能移动以将前述基板按压于前述转印滚筒中的不同位置。

15.根据权利要求11至14中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，进一步具备使转印至前述基板的前述涂布液干燥的干燥部。

16.根据权利要求15所述的基板处理装置，其特征在于，前述干燥部具有从与前述基板的移动方向交叉的方向对前述基板喷射干燥气体的喷射部。

17.根据权利要求16所述的基板处理装置，其特征在于，前述干燥部具有在前述喷射部与前述转印滚筒之间调整前述干燥气体的气流的气流调整部。

18.根据权利要求17所述的基板处理装置，其特征在于，进一步具备分别配置于前述基板的第一面一侧及第二面一侧、卷挂前述基板的多个导引滚筒；

前述气流调整部具有在多个前述导引滚筒设置的蛇腹部。

19.根据权利要求1至18中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，进一步具备分别配置于前述基板的第一面一侧及第二面一侧、卷挂前述基板的多个导引滚筒。