[发明专利]蒸镀颗粒射出装置和蒸镀装置以及蒸镀方法有效
申请号: | 201280012934.6 | 申请日: | 2012-03-07 |
公开(公告)号: | CN103415645A | 公开(公告)日: | 2013-11-27 |
发明(设计)人: | 井上智;川户伸一;园田通 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 颗粒 射出 装置 以及 方法 | ||
技术领域
本发明涉及蒸镀颗粒射出装置和具备该蒸镀颗粒射出装置作为蒸镀源的蒸镀装置以及使用该蒸镀装置的蒸镀方法。
背景技术
近年来,平板面板显示器被应用于各种商品和领域,并要求平板面板显示器的进一步大型化、高画质化、低耗电化。
在这样的状况下,具备利用有机材料的电致发光(Electroluminescence:以下记作“EL”)的有机EL元件的有机EL显示装置作为全固体型且在低电压驱动、高速响应性、自发光性等方面优异的平板面板显示器受到高度关注。
有机EL显示装置例如具有如下结构:在由设置有TFT(薄膜晶体管)的玻璃基板等构成的基板上,设置有与TFT连接的有机EL元件。
有机EL元件是利用低电压直流驱动能够发出高亮度的光的发光元件,具有依次叠层有第一电极、有机EL层和第二电极的结构。其中,第一电极与TFT连接。
此外,在第一电极与第二电极之间,作为上述有机EL层设置有使空穴注入层、空穴输送层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子输送层、电子注入层等叠层而得到的有机层。
全彩色的有机EL显示装置一般在基板上排列形成有红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)各种颜色的有机EL元件作为子像素,通过使用TFT使这些有机EL元件有选择地按所期望的亮度发光来进行图像显示。
这样的有机EL显示装置的发光部的有机EL元件一般利用有机膜的叠层蒸镀形成。在有机EL显示装置的制造中,至少由发出各种颜色的光的有机发光材料构成的发光层,按作为发光元件的每个有机EL元件以规定的图案形成。
在通过叠层蒸镀来形成规定图案时,例如可以利用使用了被称为荫罩的掩模的蒸镀法以及喷墨法、激光转印法等。其中,使用了被称为荫罩的掩模的蒸镀法是现在最普遍使用的方法。
在使用被称为荫罩的掩模的蒸镀法中,在能够将内部保持为减压状态的腔室内,配置使蒸镀材料蒸发或升华的蒸镀颗粒射出装置作为蒸镀源,例如在高真空下对蒸镀材料进行加热而使蒸镀材料蒸发或升华。
于是,使该蒸镀或升华的蒸镀材料作为蒸镀颗粒通过设置在蒸镀用的掩模的开口部而蒸镀在被成膜基板上,由此形成所期望的成膜图案。
但是,在像这样使蒸镀材料蒸发或升华而进行蒸镀的情况下,附着、沉积在被成膜基板以外的蒸镀材料只要不回收就全部成为材料的损失。
特别是构成上述那样的有机EL层的有机材料是具有电传导性、载流子输送性、发光特性、热和电的稳定性等的特殊功能性材料,其材料单价非常昂贵。
因此,为了提高材料利用效率,希望对附着在被成膜基板以外的蒸镀材料进行回收再利用。
另外,所谓的材料利用效率是指蒸镀时使用的蒸镀材料中实际被使用的蒸镀材料的比例。
在专利文献1中公开有用于减少沉积在被成膜基板以外的蒸镀材料并且对沉积在被成膜基板以外的蒸镀材料进行回收、再利用的蒸镀装置和蒸镀方法。
图19是表示专利文献1中记载的真空蒸镀装置的概略结构的截面图。
在专利文献1所记载的真空蒸镀装置500中配置有具备遮断壁511和蒸气流放出口512的蒸镀材料回收器具510作为覆盖蒸气出口502的覆盖部件,其中,该遮断壁511包围作为蒸镀源501的射出口的蒸气出口502的周围,该蒸气流放出口512设置在该遮断壁511的与蒸气出口502相对的位置。
遮断壁511的内面为凹球面,在其顶部形成有蒸气流放出口512。
在蒸镀源501的上方配置有被成膜基板200和蒸镀用的掩模531。另外,在专利文献1中,掩模531重叠在被成膜基板200的被成膜面一侧的规定位置上。
根据专利文献1,在以从蒸镀源501射向被成膜基板200的蒸气流(蒸镀流)的发散角被抑制的状态下进行蒸镀后,将蒸镀材料回收器具510从蒸镀室521取出到外部,回收沉积在遮断壁511的蒸镀材料。
根据专利文献1,从蒸气出口502射出的蒸气流中、仅通过了蒸气流放出口512的蒸气流被供向被成膜基板200,射向遮断壁511的蒸气流停留在蒸镀材料回收器具510内。
因此,能够利用蒸镀材料回收器具510将从蒸气出口502射出的蒸气流中射向被成膜基板200以外的蒸镀材料回收,并对所回收的蒸镀材料进行再利用,由此,能够提高材料利用效率。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本国公开专利公报“特开2008-223102号公报(2008年9月25日公开)”
发明内容
发明所要解决的技术问题
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