[发明专利]用于显示设备的介电分隔件无效
申请号: | 201280014602.1 | 申请日: | 2012-03-20 |
公开(公告)号: | CN103443688A | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | F·钟;Y·陶 | 申请(专利权)人: | 高通MEMS科技公司 |
主分类号: | G02B26/00 | 分类号: | G02B26/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 李小芳 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 显示 设备 分隔 | ||
技术领域
本公开涉及机电系统和显示设备。更具体地,本公开涉及在显示设备内使用分隔件。
相关技术描述
机电系统包括具有电气及机械元件、致动器、换能器、传感器、光学组件(例如,镜子)以及电子器件的设备。机电系统可以在各种尺度上制造,包括但不限于微米尺度和纳米尺度。例如,微机电系统(MEMS)器件可包括具有范围从大约一微米到数百微米或以上的大小的结构。纳米机电系统(NEMS)器件可包括具有小于一微米的大小(包括,例如小于几百纳米的大小)的结构。机电元件可使用沉积、蚀刻、光刻和/或蚀刻掉基板和/或所沉积材料层的部分、或添加层以形成电气及机电器件的其他微机械加工工艺来制作。
一种类型的机电系统器件称为干涉式调制器(IMOD)。如本文所使用的,术语干涉式调制器或干涉式光调制器是指使用光学干涉原理来选择性地吸收和/或反射光的器件。在一些实现中,干涉式调制器可包括一对导电板,这对导电板中的一者或两者可以整体或部分地是透明的和/或反射性的,且能够在施加恰适电信号时进行相对运动。在一实现中,一块板可包括沉积在基板上的静止层,而另一块板可包括与该静止层分隔一气隙的反射膜。一块板相对于另一块板的位置可改变入射在该干涉式调制器上的光的光学干涉。干涉式调制器器件具有很广范围的应用,且预期将用于改善现有产品以及创造新产品,尤其是具有显示能力的那些产品。
越来越期望制造出能耐受增加的外部压力的显示设备。例如,一些显示设备(诸如触摸屏)被设计成耐受例如来自指示笔或用户手指的压力。遗憾的是,触摸显示设备可能导致基板形变(例如,弯曲或弯折),这可能导致基板接触背板并由此损坏显示组件,诸如干涉式调制器。
概述
本公开的系统、方法和设备各自具有若干个创新性方面,其中并不由任何单个方面全权负责本文中所公开的期望属性。
本公开中所描述的主题内容的一个创新性方面可实现在机电器件封装中。机电器件封装可包括基板。多个锚区划可布置在基板上。锚区划可包括隆起分隔件。多个机电器件可形成在基板上。机电器件可形成在隆起分隔件之上并且在锚区划处被锚定至基板。机电器件封装可包括背板,该背板封接至基板以形成封装。机电器件的在基板上方的最高点可位于高于隆起分隔件之处。在一方面,机电器件可以是干涉式调制器。在一方面,分隔件可形成在锚区划中的黑色掩模层之上。在一方面,黑色掩模层可以是导电的。在一方面,基板可以是透明基板。
本公开中所描述的主题内容的另一个创新性方面可实现在机电器件中。该机电器件可包括基板、在基板上形成的锚区划、用于将锚定装置与基板分隔的装置、以及形成在分隔装置之上并且被锚定至锚区划的可移动层。在一方面,用于分隔的装置可形成在锚区划中的黑色掩模层之上。在一方面,用于分隔的装置可包括隆起的介电结构。在一方面,基板上方的高点可形成在用于分隔的装置上方。
本公开中所描述的主题内容的另一个创新性方面可实现在制造机电系统器件的方法中。该方法可包括提供基板,在基板上形成锚区划,在锚区划上形成分隔件,以及形成被锚定至锚区划中的分隔件的机电器件。机电器件可在形成分隔件之后形成。在一方面,分隔件可以是介电分隔件。在一方面,锚区划可包括黑色掩模层。在一方面,该方法可在分隔件上方形成机电器件相对于基板的最高点。
本公开中所描述的主题内容的另一个创新性方面可实现在一种设备中,该设备包括:具有第一表面的基板,第一表面包括位于其上的多个锚区划;多个隆起分隔件,该多个隆起分隔件由基板支承并且至少部分地布置在锚区划内;以及由基板支承的多个机电器件,其中这些机电器件形成在隆起分隔件之上并且在锚区划内被锚定至底下的表面,并且其中这些机电器件在离基板的第一表面最大高度处的部分覆在隆起分隔件之上。
在一方面,该设备还可包括背板,该背板封接至基板的第一表面以形成封装。在进一步方面,背板可密封至基板。在一方面,这些机电器件可以是干涉式调制器。在进一步方面,这些干涉式调制器可具有锚定在所述锚区划内的可移动镜。
在一方面,该设备还可包括至少部分地位于锚区划内的黑色掩模结构,其中分隔件覆在黑色掩模结构之上。在进一步方面,黑色掩模结构的至少一部分可以是导电的。在进一步方面,机电器件还可包括在黑色掩模结构的各部分之间延伸的缓冲层,其中该缓冲层的一部分可在黑色掩模结构的至少一部分之上延伸。在再进一步方面,其中定形结构可在该多个隆起分隔件中的至少一个隆起分隔件之上延伸,并且其中该定形结构和缓冲层包括相同的材料。
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