[发明专利]印刷电路用铜箔有效
申请号: | 201280015481.2 | 申请日: | 2012-02-10 |
公开(公告)号: | CN103443335A | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 新井英太;三木敦史 | 申请(专利权)人: | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
主分类号: | C25D7/06 | 分类号: | C25D7/06;C25D5/10;H05K1/09 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王海川;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 印刷电路 铜箔 | ||
1.一种带表面处理层的铜箔,其特征在于,在铜箔或铜合金箔上具有包含通过实施粗化(treat)处理而形成的粗化处理层、形成在该粗化处理层上的包含Ni-Co层的耐热层以及形成在该耐热层上的含有Zn、Ni、Cr的耐候层及防锈层的多个表面处理层,所述表面处理层中的总Zn/(总Zn+总Ni)为0.13以上且0.23以下。
2.如权利要求1所述的带表面处理层的铜箔,其特征在于,所述表面处理层中的总Ni量为450~1100μg/dm2。
3.如权利要求1或2所述的带表面处理层的铜箔,其特征在于,所述表面处理层中的总Co量为770~2500μg/dm2,总Co/(总Zn+总Ni)为3.0以下。
4.如权利要求1~3中任一项所述的带表面处理层的铜箔,其特征在于,所述表面处理层中的总Cr量为50~130μg/dm2。
5.如权利要求1~4中任一项所述的带表面处理层的铜箔,其特征在于,所述粗化处理层的Ni为50~550μg/dm2。
6.如权利要求1~5中任一项所述的带表面处理层的铜箔,其特征在于,所述粗化处理层为包含Co、Cu、Ni元素的粗化处理层。
7.如权利要求1~5中任一项所述的带表面处理层的铜箔,其特征在于,所述粗化处理层包含平均粒径0.05~0.60μm的由Cu、Co、Ni构成的三元合金的微粒。
8.如权利要求1~5中任一项所述的带表面处理层的铜箔,其特征在于,所述粗化处理层包含平均粒径为0.25~0.45μm的Cu的一次粒子层和形成在其上的平均粒径为0.05~0.25μm的包含由Cu、Co、Ni构成的三元合金的二次粒子层。
9.一种印刷电路用铜箔,其包含上述权利要求1~8中任一项所述的带表面处理层的铜箔。
10.一种覆铜箔层压板,其通过将上述权利要求9所述的印刷电路用铜箔层压胶粘到树脂基板上而得到。
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