[发明专利]显示装置有效

专利信息
申请号: 201280017303.3 申请日: 2012-03-01
公开(公告)号: CN103460277A 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 蒂尔曼·鲁戈海默;诺温·文马尔姆;斯特凡·伊莱克 申请(专利权)人: 欧司朗光电半导体有限公司
主分类号: G09G3/34 分类号: G09G3/34
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张春水;田军锋
地址: 德国雷*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示装置,具有:

-多个像素(1),

-至少一个连接载体(2),和

-多个无机的发光二极管芯片(3),

其中

-所述连接载体(2)包括多个开关(21),

-每个像素(1)包含至少一个发光二极管芯片(3),

-每个发光二极管芯片(3)机械固定且电连接在所述连接载体(2)上,

-每个开关(21)建立为用于控制至少一个发光二极管芯片(3)和/或每个开关(21)一对一地与一个发光二极管芯片(3)相关联,以及

-所述发光二极管芯片(3)是所述显示装置的成像元件。

2.根据上一项权利要求所述的显示装置,具有:

-接触层(4),所述接触层将至少两个发光二极管芯片(3)彼此导电地连接,和

-光学装置本体(6),所述光学装置本体设置在所述发光二极管芯片(3)的至少一部分的下游,其中,

-辐射穿透面(3a)在所述发光二极管芯片(3)的背离所述连接载体(2)的一侧上构成,

-所述接触层(4)局部地构成为是辐射可穿透的,

-所述接触层(4)局部地借助对于由所述发光二极管芯片(3)在运行中产生的电磁辐射反射的材料形成,

-由所述发光二极管芯片(3)在运行中产生的所述电磁辐射(5)至少部分地穿过所述光学装置本体(6),并且

-所述电磁辐射(5)在穿过所述光学装置本体(6)时被以光学的方式扩展,

-所述光学装置本体(6)包括辐射可穿透的分隔结构(62),所述分隔结构将相邻的像素(1)以光学的方式彼此分隔,

-所述分隔结构(62)从所述光学装置本体(6)的基本体(64)的朝向所述发光二极管芯片的一侧在朝向所述基本体(64)的背离所述发光二极管芯片(3)的一侧的方向上延伸并且不完全地穿过所述基本体(64),以及

-所述分隔结构(62)通过所述光学装置本体(6)的基本体(64)中的凹槽形成,所述凹槽填充有下述材料的至少一种:TiO2,Al2O3。

3.根据上述权利要求中的任一项所述的显示装置,具有:

-接触层(4),所述接触层将至少两个发光二极管芯片(3)彼此导电地连接。

4.根据上一项权利要求所述的显示装置,

其中

-所述接触层(4)至少局部地构成为是辐射可穿透的,以及

-所述接触层至少局部地覆盖由所述接触层(4)彼此导电地连接的所述发光二极管芯片(3)的辐射穿透面(3a)。

5.根据上一项权利要求所述的显示装置,

其中

-所述辐射穿透面(3a)在所述发光二极管芯片(3)的背离所述连接载体(2)的一侧上构成。

6.根据权利要求3至5中的任一项所述的显示装置,

其中

-所述接触层(4)至少局部地构成为是辐射可穿透的,以及

-所述接触层(4)至少局部地借助对于由所述发光二极管芯片(3)在运行中产生的电磁辐射反射的材料形成。

7.根据权利要求3至6中的任一项所述的显示装置,

其中

-所述接触层(4)局部地由透明的、导电的氧化物形成。

8.根据权利要求3至7中的任一项所述的显示装置,

其中

-所述接触层(4)局部地借助进行反射的金属如银或铝形成。

9.根据上述权利要求中的任一项所述的显示装置,具有:

-光学装置本体(6),所述光学装置本体设置在所述发光二极管芯片(3)的至少一部分的下游,其中

-由所述发光二极管芯片(3)在运行中产生的所述电磁辐射(5)至少部分地穿过所述光学装置本体(6),并且

-所述电磁辐射(5)在穿过所述光学装置本体(6)时以光学的方式扩展。

10.根据上一项权利要求所述的显示装置,

-所述光学装置本体(6)包括辐射可穿透的分隔结构(62),所述分隔结构将相邻的像素(1)以光学的方式彼此分隔。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欧司朗光电半导体有限公司,未经欧司朗光电半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280017303.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top