[发明专利]充电构件、充电构件的制造方法、电子照相设备和处理盒

说明书

技术领域

本发明涉及在电子照相设备等中使用的充电构件、所述充电构件的制造方法、电子照相设备和处理盒。

背景技术

电子照相用构件如与感光构件的表面接触以对所述表面充电的充电构件、用于将在感光构件的表面上形成的静电潜像形成为调色剂图像的显影构件和将粘附到感光构件的调色剂除去的清洁构件已用于电子照相设备中。

作为充电构件，从充分确保与感光构件抵接辊隙的观点考虑，可用具有支承体和在支承体的外周上设置的弹性层(导电性弹性层)的充电构件。通常，弹性层(导电性弹性层)常常含有相对大量的低分子量组分。为了抑制低分子量组分的渗出，在弹性层的外周上设置表面层。

专利文献1中公开了以下技术。用通过使用通过向粘结剂中加入颗粒获得的表面层形成用涂布剂形成的表面层来形成凹凸形状，然后用所述形状抑制由于来自充电构件的异常放电造成的微细的横条纹状图像不良(带电横条纹)。然而，加入各种颗粒的涂布剂涉及由于例如由颗粒的聚集造成的颗粒沉降引起的贮存稳定性方面的问题。

此外，专利文献2公开了为了避免涉及涂布剂的贮存稳定性的问题，使不添加颗粒的绝缘性表面层薄膜化的技术。

此外，发生由于从充电构件赋予至感光构件的不充分电荷引起的带电横条纹。鉴于上述情况，专利文献2能够如下所述赋予足够的电荷至感光构件。通过提高表面层的电阻值并使所述层薄膜化，增加表面层的电容量，此外，通过降低弹性层的电阻值，增加要赋予至充电构件的表面层的电荷量。

引文列表

专利文献

专利文献1：日本专利申请特开2005-345801

专利文献2：日本专利申请特开2009-086263

发明内容

发明要解决的问题

然而，对根据专利文献2的充电构件进行的研究显示，在电子照相设备中可能发生由清洁不良导致的纵条纹图像。纵条纹图像是当在清洁步骤中转印残余的废调色剂通过清洁构件溢出时出现的图像。认为由于如下发生废调色剂的溢出：由于打印数量的增加造成的在弹性刮板和感光构件之间的摩擦系数逐步增加，导致在作为清洁构件的弹性刮板中发生颤痕(chatter mark)。此外，研究显示，充电构件有助于摩擦系数的增加。

充电构件借助于在与感光构件的接触辊隙附近的间隙处发生的放电使感光构件的表面充电，结果产生电晕放电产物如O₃和NO_x，虽然它的量是轻微的。推测充电构件使如电晕放电产物和照相感光构件表面上的磨耗粉等的物质与感光构件的表面压接，从而使所述物质固着至所述表面，由此提高感光构件和清洁构件之间的摩擦系数。此外，在专利文献2中描述的充电构件中已经显著出现这样的感光构件表面的摩擦系数增加。上述可能的原因如下所述。由于专利文献2中所述的充电构件具有低的表面硬度，充电构件和感光构件之间的接触面积增大，这便于摩擦上升物质固着至感光构件表面。

鉴于上述情况，本发明旨在提供一种几乎不引起清洁不良的充电构件和充电构件的制造方法。

另外，本发明旨在提供能够稳定地形成高品质电子照相图像的电子照相设备和处理盒。

用于解决问题的方案

根据本发明的一方面，提供一种充电构件，其包含：支承体、弹性层和表面层，其中：所述表面层包含具有选自Si-O-M键和Si-O-Ta键的至少一种键、选自M-O-Ge键和Ta-O-Ge键的至少一种键以及Si-O-Ge键的高分子化合物；所述高分子化合物具有由下式(1)所示的结构单元，由下式(2)表示的结构单元，和选自由下式(3)表示的结构单元和由下式(4)表示的结构单元的至少一种结构单元；并且所述充电构件具有从其表面延伸到所述弹性层的龟裂，并且所述龟裂有凸状隆起的边缘，由此使所述充电构件的表面粗糙，条件是M表示选自由Ti、Zr和Hf组成的组的任意元素：

式(1)

在式(1)中，R₁和R₂各自独立地表示下式(5)至(8)中的任何一个：

式(5)

式(6)

式(7)

式(8)