[发明专利]无机聚硅氮烷、含有它的二氧化硅膜形成用涂布液以及二氧化硅膜的形成方法无效
| 申请号： | 201280020940.6 | 申请日： | 2012-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN103502318A | 公开（公告）日： | 2014-01-08 |
| 发明（设计）人： | 森田博;小林纯;横田洋大;降幡泰久 | 申请（专利权）人： | 株式会社艾迪科 |
| 主分类号： | C08G77/62 | 分类号： | C08G77/62;C01B21/082;C01B33/12;C08K5/00;C08L83/16;C09D183/16;H01L21/316 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 张楠;陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 无机 聚硅氮烷 含有 二氧化硅 形成 用涂布液 以及 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种无机聚硅氮烷，其中，在1H-NMR光谱中，将4.75ppm以上且低于5.4ppm的范围的峰面积设定为A，将4.5ppm以上且低于4.75ppm的范围的峰面积设定为B，将4.2ppm以上且低于4.5ppm的范围的峰面积设定为C时，A/（B+C）的值为0.9～1.5，（A+B）/C的值为4.2～50，而且，根据聚苯乙烯换算值得到的质均分子量为2000～20000。
2.根据权利要求1所述的无机聚硅氮烷，其中，在红外光谱中，在3300～3450cm-1的范围的最大吸光度相对于在2050～2400cm-1的范围的最大吸光度之比为0.01～0.20。
3.根据权利要求1或2所述的无机聚硅氮烷，其是通过使二卤代硅烷化合物、三卤代硅烷化合物、或它们的混合物与碱反应而形成加成体后，使该加成体与氨反应而得到的。
4.一种二氧化硅膜形成用涂布液，其含有权利要求1～3中任一项所述的无机聚硅氮烷和有机溶剂作为必要成分。
5.一种二氧化硅膜的形成方法，其特征在于，将权利要求4所述的二氧化硅膜形成用涂布液涂布于基体上，使该涂布液与氧化剂反应，从而形成二氧化硅膜。
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