[发明专利]脱模剂组合物及使用其的转印箔有效
申请号: | 201280022509.5 | 申请日: | 2012-05-09 |
公开(公告)号: | CN103517961A | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | 长谷川一希 | 申请(专利权)人: | 日本曹达株式会社 |
主分类号: | C09K3/00 | 分类号: | C09K3/00;B32B27/00;B32B27/36;B44C1/17;C08L47/00;C08L67/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 金世煜;苗堃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 脱模剂 组合 使用 转印箔 | ||
1.一种脱模剂用组合物,含有氨基醇酸树脂、具有2个以上羟基的烃类聚合物和酸。
2.根据权利要求1所述的脱模剂组合物,其中,氨基醇酸树脂为含长链烷基的氨基醇酸树脂。
3.根据权利要求1或2所述的脱模剂组合物,其中,具有2个以上羟基的烃类聚合物为含有70%以上的1,2-键的聚丁二烯多元醇。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的脱模剂组合物,其中,具有2个以上羟基的烃类聚合物的重均分子量在1500~2500的范围。
5.一种转印箔,在含有基材、脱模层、和转印层的转印箔中,脱模层是通过在该基材上涂布权利要求1~3中任一项所述的脱模剂组合物而得到的。
6.根据权利要求5所述的转印箔,其中,转印层是含有有机无机复合物的层,该有机无机复合物含有:
a)下述式(I)表示的有机硅化合物和/或其缩合物、
b)紫外线固化性化合物、以及
c)硅烷醇缩合催化剂,
RnSiX4-n…(I)
式中,R表示碳原子与式中的Si直接键合的有机基团,X表示羟基或者水解性基团,n表示1或2,n为2时,2个R相同或不同,4-n为2以上时,多个X相同或不同。
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