[发明专利]脱模剂组合物及使用其的转印箔有效

专利信息
申请号: 201280022509.5 申请日: 2012-05-09
公开(公告)号: CN103517961A 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 长谷川一希 申请(专利权)人: 日本曹达株式会社
主分类号: C09K3/00 分类号: C09K3/00;B32B27/00;B32B27/36;B44C1/17;C08L47/00;C08L67/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 金世煜;苗堃
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 脱模剂 组合 使用 转印箔
【权利要求书】:

1.一种脱模剂用组合物,含有氨基醇酸树脂、具有2个以上羟基的烃类聚合物和酸。

2.根据权利要求1所述的脱模剂组合物,其中,氨基醇酸树脂为含长链烷基的氨基醇酸树脂。

3.根据权利要求1或2所述的脱模剂组合物,其中,具有2个以上羟基的烃类聚合物为含有70%以上的1,2-键的聚丁二烯多元醇。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的脱模剂组合物,其中,具有2个以上羟基的烃类聚合物的重均分子量在1500~2500的范围。

5.一种转印箔,在含有基材、脱模层、和转印层的转印箔中,脱模层是通过在该基材上涂布权利要求1~3中任一项所述的脱模剂组合物而得到的。

6.根据权利要求5所述的转印箔,其中,转印层是含有有机无机复合物的层,该有机无机复合物含有:

a)下述式(I)表示的有机硅化合物和/或其缩合物、

b)紫外线固化性化合物、以及

c)硅烷醇缩合催化剂,

RnSiX4-n…(I)

式中,R表示碳原子与式中的Si直接键合的有机基团,X表示羟基或者水解性基团,n表示1或2,n为2时,2个R相同或不同,4-n为2以上时,多个X相同或不同。

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