[发明专利]用于制造烘焙产品的装置有效
申请号: | 201280022691.4 | 申请日: | 2012-05-04 |
公开(公告)号: | CN103619179B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | J.哈亚斯;J.哈亚斯;S.杰拉斯彻克;M.科普夫 | 申请(专利权)人: | 哈斯食品设备有限责任公司 |
主分类号: | A21B1/42 | 分类号: | A21B1/42 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 陈浩然,李婷 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 烘焙 产品 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种用于制造烘焙产品的装置,尤其用于制造可食用的脆威化饼或软威化饼的装置,其中,设置有优选在烘焙时运动通过烘焙室的至少一个烤盘,其烘焙面可以烘焙温度来加热。
背景技术
这种装置尤其为威化饼烤炉。很早就已知带有循环的烤钳(Backzange)的威化饼烤炉用来工业化生产任何类型的威化饼。此外,到目前为止还已经已知测量并调节炉温以实现良好的烘焙过程。但当前的温度测量一直仅通过红外热量传感器(Infrarotw?rmesensor,其布置在炉腔中并且测量例如在烤盘背侧处的温度)来间接地进行。在此不利的是系统的很大的惰性,并且该温度测量并未给出在烘焙过程期间在盘子中关于温度变化过程的信息,且更完全没有给出在烘焙过程期间在烘焙面处关于温度变化过程的信息。
迄今为止,在工业化的烘焙过程中完全没有对在闭合的烤钳中出现的压力进行测量,并且没有使用该测量进行烘焙过程控制。这尤其适用于引导通过炉子的烘焙室的烤钳,其中,如同在固定的烤炉中那样进行布线不可行。
烘焙过程可由多种因素改变或干扰,由此导致有缺陷的烘焙过程和废品的提高。例如,面团成分可在含水量或面粉质量或其它的面团因素方面发生改变。此外,由于污染-例如由于粘着的烘焙残余物-可在烤盘上导致多重注入(Mehraufguss),由此不仅烘焙产品变得不可用,而且还可损伤烤盘和钳架(Zangenwagen)的机械部件。
直到现在,烘焙过程的很多这种干扰仅可在烘焙过程之后根据有缺陷的烘焙产品来发现,因此尤其在快速运转的烤炉中出现大量废品。
发明内容
因此本发明的目的在于避免所提到的缺点,这通过以下方式来实现,即在烘焙过程期间通过测量正好在烤盘中和尽可能靠近烘焙面的压力和/或温度来进行测量,并且因此具有及时调节烘焙参数的可能性。烤炉的操作者例如应根据测量数据在有理论值偏差的情况下能够调整参数,例如温度、面团量、配方以及带速。此外,应可避免污染、磨损现象以及取决于此的双重注入。目的还在于根据所测量的参数全自动地调节烤炉控制。
根据本发明的装置应可用于所有的烤炉,在其中,使用参数温度和压力来进行调节是有意义的。该威化饼烤炉尤其用来制造脆的平型威化饼、带有三维造型的威化产品、平的烘焙产品(在烘焙过程之后在加热的状态中对该烘焙产品进行三维成型)以及软威化饼。烤炉的工业化的技术上的工作方式借助于循环的烤钳(其彼此成排地来布置)来实现,其中,烤钳相应包括上烤盘和下烤盘,并且打开烤钳以用于容纳面团,在关闭之后横穿烘焙室且在烤好产品之后再次打开以取出烘焙产品,然后进行清洁,并且然后再次输送给面团给料站。例如在文件AT 378 470 B1和类似的文件US 4 438 685中对该现有技术进行了说明。
本发明由此实现所提出的目的,即设置有至少一个烤盘,其烘焙面可以烘焙温度来加热,其中,烤盘具有传感器装置以用于探测烤盘的温度和/或探测在烘焙过程中作用到烤盘的烘焙面上的压力。传感器装置含有至少一个传感器。该传感器优选在烤盘中布置在传感器容纳开口中,从而传感器以其传感器头部处在烘焙面中或者处成延伸至直到靠近烘焙面。传感器容纳开口构造成从烤盘的背侧朝测量区段延伸直至靠近烘焙面,其中,烘焙面和测量区段连续地伸延。
备选地,传感器容纳开口可从烤盘的背侧穿透烤盘,其中,传感器头部以其传感器膜片处在烘焙面中且与该烘焙面以相同的方式形成轮廓(profiliert)。
传感器容纳开口的测量区段可具有朝传感器头部或其传感器膜片凸出的凸形物(Stempel)以用于传输作用到测量区段上的测量参数。备选地,传感器膜片也可具有朝测量区段凸出的凸形物。测量区段具有例如大约在1mm与3mm之间的壁厚。
传感器容纳开口可构造为伸入到烤盘中的盲孔,并且传感器以其传感器头部成形成柱形且借助于环形夹持元件固定在烤盘中。此外,传感器为优选可借助于电磁场查询的被动式温度-压力传感器,该被动式温度-压力传感器在其传感器背侧处承载传感器天线以用于能量和信息传输。传感器天线为H形切口天线(H-Schlitz-Antenne)。在传感器下方布置有反射板,其固定在传感器本体或其轴处。
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