[发明专利]用于材料供应设备的过滤器有效

专利信息
申请号: 201280024335.6 申请日: 2012-03-20
公开(公告)号: CN103561839B 公开(公告)日: 2017-03-01
发明(设计)人: I·V·福缅科夫;W·N·帕特洛;G·O·瓦斯恩冦;W·奥尔德姆 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: B01D35/00 分类号: B01D35/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所11256 代理人: 王茂华,吕世磊
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 材料 供应 设备 过滤器
【权利要求书】:

1.一种用于将目标材料供应至目标位置的设备,所述设备包括:

储蓄容器,所述储蓄容器保持包括所述目标材料和非目标微粒的目标混合物;

第一过滤器,所述目标混合物经过所述第一过滤器;

第二过滤器,所述目标混合物经过所述第二过滤器;以及

供应系统,所述供应系统接收已经通过所述第一和第二过滤器的所述目标混合物,并将所述目标混合物供应至所述目标位置;

其中,所述第二过滤器包括一组通孔,并具有暴露于目标混合物的暴露表面积,所述暴露表面积不大于与所述第二过滤器具有相同横向范围的烧结过滤器的暴露表面积的百分之一。

2.如权利要求1所述的设备,其特征在于所述第二过滤器接收已经通过所述第一过滤器的所述目标混合物。

3.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述组的所述通孔具有均匀尺寸的横截面宽度。

4.如权利要求3所述的设备,其特征在于,所述第二过滤器包括另一组均匀尺寸的通孔,所述另一组均匀尺寸的通孔的横向尺寸不同于所述组的均匀尺寸通孔的横向尺寸。

5.如权利要求1所述的设备,其特征在于:所述第一过滤器包括一组通孔,并具有暴露于目标混合物的暴露表面积,所述暴露表面积不大于与所述第二过滤器具有相同横向范围的烧结过滤器的暴露表面积的百分之一。

6.如权利要求5所述的设备,其特征在于:所述第一过滤器组的所述通孔的所述横截面宽度可与所述第二过滤器组的所述通孔的所述横截面宽度不同。

7.如权利要求1所述的设备,其特征在于:所述第二过滤器具有沿纵向方向的厚度,所述沿纵向方向的厚度足够大以承受跨越在所述第二过滤器的压差。

8.如权利要求1所述的设备,其特征在于:在所述第二过滤器的所述组的通孔中的每个孔具有小于10μm的横截面宽度。

9.如权利要求1所述的设备,其特征在于:在所述第二过滤器的所述组的通孔中的每个孔的所述横截面宽度小于所述供应系统的喷嘴孔的横截面宽度。

10.如权利要求1所述的设备,其特征在于:所述第一和第二过滤器的至少一个是至少部分地由钨、钛、钼、镍、钽或其它金属、石英、玻璃或陶瓷材料制成。

11.如权利要求1所述的设备,其特征在于:在所述第二过滤器中的所述组的所述通孔有阻挡至少一些非目标微粒的大小。

12.如权利要求1所述的设备,其特征在于:所述目标材料处于流体状态。

13.如权利要求1所述的设备,其特征在于:所述第二过滤器是非烧结和非网眼过滤器。

14.一种设备,包括:

储蓄容器,所述储蓄容器保持包括目标材料和非目标微粒的目标混合物;

第一过滤器,所述目标混合物经过所述第一过滤器,所述第一过滤器是由第一材料制成;

第二过滤器,所述目标混合物经过所述第二过滤器,所述第二过滤器是由不同于所述第一材料的第二材料制成;

供应系统,所述供应系统接收已经通过所述第一和第二过滤器的所述目标混合物,并将所述目标混合物供应至所述目标位置;

辐射源,所述辐射源将辐射供应至所述目标位置以因此撞击所述目标混合物;以及

收集系统,所述收集系统捕获并引导由通过所述辐射撞击的混合物产生的远紫外光。

15.如权利要求14所述的设备,其特征在于:所述第二过滤器接收已经通过所述第一过滤器的所述目标混合物。

16.如权利要求14所述的设备,其特征在于:所述第一过滤器组的所述通孔的所述横截面宽度与所述第二过滤器组的所述通孔的所述横截面宽度不同。

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