[发明专利]用于材料供应设备的过滤器有效

专利信息
申请号: 201280024335.6 申请日: 2012-03-20
公开(公告)号: CN103561839B 公开(公告)日: 2017-03-01
发明(设计)人: I·V·福缅科夫;W·N·帕特洛;G·O·瓦斯恩冦;W·奥尔德姆 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: B01D35/00 分类号: B01D35/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所11256 代理人: 王茂华,吕世磊
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 材料 供应 设备 过滤器
【说明书】:

相关申请的交叉引用

本申请要求2011年5月20日提交的名称为“FILTER FOR MATERIAL SUPPLY APPARATUS”的美国实用专利申请系列号13/112,784的优先权,代理案卷号002-045001/2010-0031-01,其全部内容以参见的方式纳入本文。

技术领域

本发明涉及在目标材料供应装置中使用的过滤器。

背景技术

远紫外(“EUV”)光,例如具有大约50nm或更小(有时也称为软X射线)的波长的电磁辐射,并包括波长大约13nm的光,可用于光刻过程中在例如硅晶片的基质中产生极小的特征。

用于产生远紫外光的方法包括,但不限于,将具有例如:氙、锂或锡元素的材料转换成等离子态,该等离子态具有在远紫外范围内的射线。在一个这样的方法中,经常称为激光等离子体(“LLP”),所需的等离子体可通过用可称为驱动激光的放大光束照射目标材料来产生,目标材料可以是例如微滴、流或串的形式。这个过程中,等离子体通常在一个封闭的器皿中产生,例如真空腔,并使用各种类型的测量设备来监测。

发明内容

在一些通常方面,设备将目标材料供应到目标位置。设备包括储蓄容器,该储蓄容器保持目标混合物,该目标混合物包括目标材料和非目标材料;第一过滤器,目标混合物经过该第一过滤器;第二过滤器,目标混合物经过该第二过滤器;以及供应系统,该供应系统接收已经经过第一和第二过滤器的目标混合物,并将该目标混合物供应至目标位置。第二过滤器包括一组通孔,该组通孔具有均匀尺寸的横截面宽度,并具有暴露于目标混合物的表面积,该暴露表面积不大于与第二过滤器具有相同横向范围的烧结过滤器的暴露表面积的百分之一。

实施例可包括一个或多个以下特征。例如,第二过滤器可接收已经经过第一过滤器的目标混合物。或者,第一过滤器可接受已经经过第二过滤器的目标混合物。

第二过滤器可包括另一组均匀尺寸的通孔,该另一组的均匀尺寸通孔的横向尺寸不同于所述一组均匀尺寸通孔的横向尺寸。

第一过滤器可从烧结过滤器和网眼过滤器组中选择。

第一过滤器还包括一组通孔,该组通孔具有均匀尺寸的横截面宽度,并可具有暴露于目标混合物的表面积,该暴露表面积不大于与第二过滤器具有相同横向范围的烧结过滤器的暴露表面积的百分之一。第一过滤器组的通孔的横截面宽度可与第二过滤器组的通孔的横截面宽度不同。

第二过滤器可具有沿纵向方向的厚度,该沿纵向方向的厚度足够大以承受跨越第二过滤器的压差。

在第二过滤器的通孔组中的每个孔可具有小于10μm的横截面宽度。第二过滤器的通孔组中的每个孔的横截面宽度相对第二过滤器的通孔组中的每个其它孔的横截面宽度其变化不多于20%。

供应系统可包括喷嘴,该喷嘴限定目标混合物所经过的孔。喷嘴可引导目标混合物通过孔朝向目标位置。第二过滤器的通孔组中的每个孔的横截面宽度以小于喷嘴孔的横截面宽度。供应系统构造成产生目标材料的微滴。

第一和第二过滤器的至少一个可至少部分地由钨、钛、钼、镍、钽或其它金属、石英、玻璃或陶瓷材料制成。

在第二过滤器中的通孔组可有阻挡至少一些非目标微粒的大小。

目标混合物可以是流体。流体可以是液体、气体或在某种程度而言是塑性固体。

第二过滤器可以由玻璃或钨制成。第二过滤器可以是非网眼和非烧结过滤器。

第二过滤器可包括蚀刻孔或准直毛细孔。第一过滤器可以是烧结过滤器。第二过滤器可包括微加工孔。

第一过滤器可包括有阻挡至少一些非目标微粒的大小的孔。第二过滤器可包括有阻挡至少一些非目标微粒的大小的孔。

第二过滤器可由不同于第一过滤器的材料的材料制成。第二过滤器可以由玻璃制成。

目标材料可以是纯锡。在这种情况下,第一过滤器可以由较佳地与锡不相容(不兼容)的材料制成,例如,第一过滤器的材料可容易地被锡腐蚀或侵蚀。例如,第一过滤器可由钛、不锈钢或在烧结后可成形、可烧结、可延展以足以来承受安装的材料制成。在这种情况下,第二过滤器与锡较相容(相兼容)。例如,第二过滤器可由玻璃、钨、镍、其它耐高温金属、石英或合适的陶瓷材料制成(诸如氧化铝、碳化硅、氮化硅、氮化钛等)

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280024335.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top