[发明专利]质量分析装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种具备利用高频的自清洗装置的质量分析装置。

背景技术

作为质量分析装置，将以下的自动或手动的质量分析装置为例子进行说明，该质量分析装置通过质量分析装置的试样生成部对试样进行离子化，将离子化后的试样导入到质量分析装置的试样导入部，通过分析部进行试样的确定、分析。

质量分析装置在导入试样的分析时通过加热器、高低压等的能量，进行试样的离子化，通过质量分析装置的试样导入部导入试样，但在实施离子化的过程中，离子化不充分的试样在质量分析装置的试样导入部附近通过从质量分析装置所具有的加热器等热源得到的能量等而成为氧化物乃至碳化物等生成物，作为堆积物堆积在试样导入部附近。该堆积物使质量分析装置的试样导入部的细孔变狭窄，成为试样导入的阻碍。另外，堆积在试样导入部附近的堆积物根据情况而通过由质量分析装置所具有的电源提供的电位而带电、充电（charge up），同样会产生成为试样导入的阻碍的问题。

另外，为了解决该问题而恢复质量分析装置的性能，必须对质量分析装置的试样导入部实行去除所生成、堆积的物质等的清扫操作。通常，作为维护，卸下导入部的部件，实施刷洗、削铲等手动的堆积物的去除、药液、超声波清洗等。在实施了清扫等操作后，实施卸下的部件的安装、抽真空等，进入质量分析装置的维护后的启动操作等。

作为用于解决这种质量分析装置的问题的技术背景，有日本特表2001-502114号公报（专利文献1）。在该公报中，记载有“不挥发性成分堆积在注入孔周围。洗净液输送用的导管与注入孔相邻而具有开口，在离子源动作时向孔构件的表面的至少一部分上供给洗净液”，关于质量分析装置的自清洗，使用洗净液是公知的，除此以外，一般由实施维护的人卸下部件，在实施去除堆积物等的清扫操作后，实施使用了药液等的洗净等操作后，将卸下的部件进行组装。

同样，作为维护时间的问题，质量分析装置具有以下这样的问题。

质量分析装置是真空装置，或在试样导入部配置有加热器等热源。因此，在试样导入部的清扫、洗净等维护时，实施真空的开放、抽真空、另外停止对作为热源的加热器提供电源、电源的再提供等操作。这时，真空度的稳定性、热源温度的稳定度对质量分析装置的稳定的性能提供产生影响，因此为了解决这样的问题，作为质量分析装置需要缩短维护时间、提高稳固性。

为了解决这样的问题，还有上述专利文献1那样的自动提供药液的文献，但通过使用药液，并不能排除真空度、热源的稳定性的降低，为了得到装置的稳定性，需要一定的时间。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特表2001-502114号公报

发明内容

发明要解决的问题

在从试样离子化装置（离子源）导入试样时，离子化不充分的试样滞留在导入部细孔以外的部位，通过热等能量，作为氧化物乃至碳化物等生成物堆积。所堆积的生成物由于位于质量分析装置的试样导入部的细孔的狭窄、部件表面的堆积物带电等，产生会成为质量分析装置的性能劣化的原因的问题。另外，同样也需要进行清扫、洗净操作等维护时所需要的质量分析装置的维护对象部件的卸下、安装操作、加热器等附带的热源的部件的卸下、安装操作。同样，还需要进行加热器等附带的热源的部件的降温、升温、分析部的真空释放、抽真空等附带操作。

存在以下问题，即由于这些堆积物造成的性能劣化、由于维护后到质量分析装置进入稳定的状态为止所需要的温度、真空度的稳定度差造成的装置的性能劣化。

解决问题的方案

本发明是一种质量分析装置，具备试样供给源、对从试样供给源提供的试样进行离子化的试样离子化部、导入离子化后的试样离子的试样导入抑制室、成为试样导入抑制室的下游的差动排气室、成为差动排气室的下游侧的分析部，其特征在于，具备：放电生成单元，其在试样导入抑制室、差动排气室的至少一方生成放电。

发明效果

根据上述本发明，能够通过差动排气室、因差动排气室内的放电产生的放电能量对堆积物进行分解去除。因此，不需要装置部件的分解、组装、以及真空的释放、抽真空等操作，能够缩短维护时间。另外，在维护时不破坏质量分析装置的装置环境，因此通过提供基于维护后稳定的环境而持续维持稳定的性能的装置，能够减轻因性能劣化等造成的问题。

附图说明

图1是表示在本发明的实施例中在四重极型质量分析装置中利用现有的高频电源而配置了自清洗装置的结构的图。