[发明专利]细微结构形成用模和光学元件的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及细微结构形成用模和光学元件的制造方法。例如涉及用于形成防反射结构等细微结构的细微结构形成用模和光学元件的制造方法。

本申请根据2011年9月16日在日本申请的日本特愿2011-203004号主张优先权，在此引用其内容。

背景技术

以往，例如在相机等的摄像镜头的透镜面上设有防反射膜，以防止重影（ゴースト）和耀光（フレア）等不需要的光的映入。

作为这种设置于透镜等光学元件表面的防反射膜，例如已知有根据要进行防反射的光的波长使高折射率层和低折射率层适当交替重叠得到的多层薄膜。这样的多层防反射膜虽然是通过真空蒸镀或溅射等真空工艺形成的。

另一方面，作为不基于这样的多层薄膜的防反射结构，例如专利文献1所述，已知有如下防反射结构：在透镜表面形成以三角锥或四角锥等为单位的细微结构，折射率能够在透镜表面附近产生变化。

在专利文献1记载了如下制造透镜的技术：形成将三角柱隔开微小间距排列得到的X射线掩模，隔着该X射线掩模对涂布在透镜上的抗蚀剂曝光X射线，在透镜表面形成三角锥的细微结构。而且，通过进行RF干蚀刻，将三角锥的细微结构转印到透镜表面，形成防反射结构体。

另外，专利文献2中记载了一种对将细微的圆锥状凸部配置成大致稠密状的防反射部进行成型的技术。在专利文献2所记载的技术中，在由玻璃板构成的成型模的成型面上形成蚀刻速度倾斜材料的薄层，在该薄层的表面形成光致抗蚀剂膜，对该光致抗蚀剂膜进行曝光、显影，形成规定的图案的掩模，隔着该掩模对蚀刻速度倾斜材料层进行蚀刻。由此，形成对防反射部的形状进行转印的成型模。然后，使用该成型模进行冲压成型，从而形成透镜表面上被转印了防反射部的形状的光学元件。

现有技术文献

专利文献1：日本特开2006-317807号公报

专利文献2：日本特开2004-12856号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而上述现有技术中存在以下问题。

由于通过真空蒸镀或溅射等真空工艺形成的防反射膜需要设置多层对膜厚进行了管理的薄膜，因此存在处理时间变长这样的问题。

此外，由于在真空工艺中指向性较高，因此，根据透镜形状，例如在外周部相对于中心部的凹凸量较大的透镜的情况下，膜厚在中心部和外周部会发生变化。因此，无法得到在透镜面整体上具有均匀的防反射特性的防反射膜，例如成为了外周部的防反射特性比中心部差的防反射膜。

在专利文献1所记载的技术中，由于不使用多层膜，因此能够省略真空蒸镀或溅射等工序，但是，由于要对每个光学元件进行蚀刻，因此存在制造上耗费时间这样的问题。

在专利文献2所记载的技术中，由于通过冲压成型来转印防反射部的形状，因此相比对每个光学元件形成多层膜或进行蚀刻的情况，能够缩短制造时间。然而，由于成型模包含防反射结构的形状，因此，与仅对通常的透镜面进行成型的成型模相比，成为昂贵的模具。而且，为了制造光学元件的透镜面的曲率半径等设计尺寸略微不同的光学元件，也需要分别制造这样的昂贵的成型模。因此，存在模具制作成本增大、光学元件的制造成本增大这样的问题。

本发明正是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供细微结构形成用模和光学元件的制造方法，即使被加工体的表面形状发生变化，也能够容易且迅速地在被加工体的表面形成防反射结构。

用于解决问题的手段

为了解决上述问题，根据本发明的第1方式的细微结构形成用模，其在具备表面的被加工体的所述表面上形成凹凸形状的细微结构，所述被加工体的所述表面具有曲率，该细微结构形成用模具有：成型面部，其对所述细微结构进行转印；基体部，其以能够使所述成型面部弯曲的方式支撑所述成型面部；以及模变形部，其通过对所述基体部进行变形来使所述成型面部弯曲。

也可以是，根据本发明的第2方式的细微结构形成用模，在所述第1方式中，在所述成型面部，在所述基体部的表面加工有转印所述细微结构的形状。

也可以是，根据本发明的第3方式的细微结构形成用模，在所述第1方式或所述第2方式中，所述模变形部具有使所述基体部的表面与所述被加工体的凹部相对地突出的凸变形部、和使所述基体部的表面与所述被加工体的凸部相对地凹陷的凹变形部中的至少一方。