[发明专利]镀膜装置

权利要求书

1.一种镀膜装置，包括：

多个靶材电极，其分别具有附连面，靶材能够附连于所述附连面；

用于在与所述多个靶材电极相对的位置保持基板的基板支架；

在所述多个靶材电极及所述基板支架之间可旋转地被设置且具有能够与所述附连面相对的多个开口的第一挡板构件；以及

与所述第一挡板构件相邻地布置、且具有数量与所述靶材电极的数量相等的开口的遮蔽构件；

其中，所述第一挡板构件及所述遮蔽构件之间的间隙从相邻的所述靶材电极的最靠近部朝向外周侧扩大。

2.如权利要求1所述的镀膜装置，其中，

所述遮蔽构件布置于所述靶材电极及所述第一挡板构件之间。

3.如权利要求2所述的镀膜装置，其中，

在相邻的所述靶材电极的最靠近部中，所述遮蔽构件具有比所述第一挡板构件更大的曲率半径。

4.如权利要求2或3所述的镀膜装置，还包括第二挡板构件，第二挡板构件可旋转地设于所述第一挡板构件及所述基板支架之间，且具有数量与所述第一挡板构件的开口的数量相等或更多的开口，

其中，所述第二挡板构件的开口能够定位成与所述第一挡板构件的开口相对。

5.如权利要求1至4中任一项所述的镀膜装置，还包括：

设在所述第一挡板构件的位于所述靶材电极这一侧的表面上的第一分离壁；

设在所述第一挡板构件及所述靶材电极之间的第二分离壁；

其中，所述第一分离壁设置成使所述第一挡板构件的开口位于其间；

所述第二分离壁设置成当所述第一挡板构件围绕旋转轴旋转预定角度或更多角度时能够与所述第一分离壁接触；并且

在镀膜处理过程中，所述第一分离壁定位成与所述第二分离壁之间具有间隙。

6.如权利要求5所述的镀膜装置，其中，

所述靶材电极之中的两个被用于同时镀膜处理，并且

在所述同时镀膜处理过程中，所述第一挡板构件的开口与在所述同时镀膜处理中所使用的靶材电极的所述附连面同时相对。

7.如权利要求1至5中任一项所述的镀膜装置，其中，

在所述第一挡板构件中形成有两个开口，所述两个开口形成于关于所述旋转轴对称的位置。

8.如权利要求5至7中任一项所述的镀膜装置，其中，

所述第一分离壁及所述第二分离壁均以所述旋转轴为中心沿径向方向延伸。

9.如权利要求5至8中任一项所述的镀膜装置，其中，

形成于所述第一挡板构件中的开口在第一挡板构件的圆周方向上的尺寸比在第一挡板构件的径向方向上的尺寸长。