[发明专利]镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及镀膜装置，尤其涉及用于减少多靶材溅射镀膜装置中的污染，所述镀膜装置例如包括在单一室内的由不同材质制成的多个靶材电极，且利用旋转挡板装置通过溅射形成多层式膜。

背景技术

多靶材溅射镀膜装置（例如专利文献1）可以在单个镀膜室内通过没有中断的连续溅射、从最下层至最上层在基板上形成必要的多层式膜。

在专利文献1的镀膜装置中，为了在单个室内通过溅射形成多层式膜，将多个不同材质的靶材布置于室顶部上，即布置于待要在其上镀膜的基板的上方的空间中，且设有对在溅射镀膜中使用的靶材进行选择的挡板装置。此挡板装置具有包括彼此独立旋转的挡板的双层挡板结构。这两个挡板中的每一个都在预定位置形成有所需数量的开口，从而从基板侧可以看见所选择的靶材。

借助该旋转挡板装置，由在镀膜过程中不使用的材质制成的靶材被遮蔽，并且由在溅射镀膜过程中使用的材质制成的靶材能够从基板通过开口看到。该旋转挡板装置具备从基板观察为基本圆形形状的两个挡板，此两个挡板板构造成彼此独立旋转。为了选择在溅射镀膜过程中所使用的靶材，借助旋转挡板装置将各挡板旋转，使得由在镀膜过程中需要使用的材质制成的靶材通过开口面向基板。

在以特定顺序选择多个靶材（所述靶材由待要在镀膜过程中使用的不同的材料制成）进行溅射镀膜的情况下，在靶材间发生污染的话镀膜的膜性能有可能下降。为了在基板上沉积性能良好的多层式膜，需要能够可靠地防止污染的发生的技术。

[引用文献列表]

[专利文献]

专利文献1：日本特开2011-001597号公报

发明内容

[技术问题]

不过，由于溅射粒子会通过支撑阴极的阴极支架及旋转挡板之间的间隙，可能会发生污染。作为对策，优选的是使阴极支架及旋转挡板之间的间隙变狭窄。同时，为了减少挡板装置的重量，存在由薄板构成旋转挡板的情况。在这种情况下，因为旋转挡板上的膜所产生的应力、或用于清洁旋转挡板时的喷气处理等因素，会使旋转挡板变形，所以有必要在阴极支架及旋转挡板之间形成间隙，以在两者之间提供特定的空间。

在图12、13A、13B中示出了传统的挡板装置。图12是旋转挡板装置的俯视图，图13A、13B分别是图12的A-A剖面图和B-B剖面图。在传统的挡板装置100中，在阴极C侧的遮蔽板102及阴极C侧的旋转挡板103之间形成有允许被溅射的物质通过的间隙D1。尤其是，如图13B所示，遮蔽板102及旋转挡板103之间的间隙D1在相邻的阴极之间的区域。存在由于镀膜物质通过此间隙而可能发生污染的担忧。

鉴于上述问题，本发明的目的是提供一种镀膜装置，其构造成可以减少靶材间的污染的发生。

[解决问题的方案]

根据本发明的镀膜装置是这样的一种镀膜装置，其包括：多个靶材电极，其具有附连面，靶材能够附连于所述附连面；用于在与所述多个靶材电极相对的位置保持基板的基板支架；在所述多个靶材电极及所述基板支架之间可旋转地设置且具有能够与所述附连面相对的多个开口的第一挡板构件；以及与所述第一挡板构件相邻地布置、且具有数量与所述靶材电极的数量相等的开口的遮蔽构件；其中，所述第一挡板构件及所述遮蔽构件之间的间隙从相邻的所述靶材电极的最靠近部朝向其外周侧扩大。

[本发明的有益效果]

本发明能够提供这样一种镀膜装置，其包括位于单个室内的多个靶材，从而通过溅射且借助旋转挡板装置选择靶材而形成多层式膜，该镀膜装置构造成可以减少靶材间的污染。

本发明的其他的特征及优点从参照附图的以下的说明中会更明显。需要注意的是，在附图中，相同或类似的部件赋予相同的附图标记。

附图说明

附图被包含在说明书中并构成其一部分，其显示了本发明的实施例，并用来与说明书一起说明本发明的原理。

图1示出了本发明的第一实施例的镀膜装置的竖向剖面图。

图2示出了构成本发明的第一实施例的挡板装置的各构件的立体图。

图3示出了本发明的第一实施例的挡板装置从上方观察的示意图。

图4A示出了图3的I-I剖面图。

图4B示出了图3的III-III剖面图。

图5示出了图3的II-II剖面图。

图6示出了构成本发明的第二实施例的挡板装置的各构件的立体图。

图7示出了构成本发明的第二实施例的挡板装置的各构件从上方观察的图。

图8示出了本发明的第二实施例的挡板装置的剖面图。