[发明专利]被曝光基板的定位校正方法及曝光装置

权利要求书

1.一种被曝光基板的定位校正方法，其是在将通过输送单元在输送方向上被输送的被曝光基板依次曝光时，基于之前被曝光了的被曝光基板的定位的偏移，对之后被曝光的被曝光基板的定位进行校正的被曝光基板的定位校正方法，其特征在于，具有以下的步骤：

为了对在所述输送单元上被输送来的被曝光基板的定位偏移进行观测，检测出在被曝光基板上预先规定的第1观测点和第2观测点的坐标的坐标检测步骤；

基于所述被检测出的坐标相对于根据所述第1观测点和第2观测点预先规定的基准线的偏移算出校正量的校正量算出步骤；以及

基于所述被算出的校正量对之后被曝光的被曝光基板的定位进行校正的定位校正步骤。

2.如权利要求1所述的被曝光基板的定位校正方法，其特征在于，

所述被曝光基板的定位是，基于通过设于所述输送方向的前部侧的第1相机和设于后部方向的第2相机检测出在被曝光基板表面上形成的第1定位记号和第2定位记号的信息而进行的，

所述校正量算出步骤中，基于所述第1观测点和第2观测点的坐标相对于所述基准线的偏移算出平移量和增益量，所述平移量是设于被曝光基板的输送方向的前部侧的第1定位记号和设于后部侧的第2定位记号在与输送面平行的面内朝向与所述输送方向交叉的方向的校正量，所述增益量是相对于所述被曝光基板的基准线的倾斜的校正量，

所述定位校正步骤中，通过所述第1相机和第2相机检测到所述第1定位记号和第2定位记号并将所述被曝光基板定位后，使所述第1定位记号和第2定位记号相对于该两者的中心分别点对称地旋转所述增益量、在与所述输送方向交叉的方向上移动所述平移量，从而对所述被曝光基板的定位进行校正。

3.如权利要求1所述的被曝光基板的定位校正方法，其特征在于，

所述被曝光基板的定位是，基于通过设于所述输送方向的前部侧的第1相机和设于后部方向的第2相机检测出在被曝光基板表面上形成的第1定位记号和第2定位记号的信息而进行的，

所述校正量算出步骤中，基于所述第1观测点和第2观测点的坐标相对于所述基准线的偏移，算出在与输送面平行的面内朝向与所述输送方向交叉的方向的所述第1相机的校正量即第1相机校正量、以及所述第2相机的校正量即第2相机校正量，

所述定位校正步骤中，通过朝向与所述输送方向交叉的方向使所述第1相机移动所述第1相机校正量、使所述第2相机移动所述第2相机校正量，从而对所述被曝光基板的定位进行校正。

4.如权利要求1所述的被曝光基板的定位校正方法，其特征在于，

所述被曝光基板的定位是，基于通过设于所述输送方向的前部侧的第1相机和设于后部方向的第2相机检测出在被曝光基板的表面上形成的第1定位记号和第2定位记号的信息而进行的，

所述校正量算出步骤中，基于所述第1观测点和第2观测点的坐标相对于所述基准线的偏移，算出在与输送面平行的面内朝向与所述输送方向交叉的方向的所述第1轴的校正量即第1轴校正量、以及所述第2轴的校正量即第2轴校正量，

所述定位校正步骤中，通过所述第1相机和第2相机检测到所述第1定位记号和第2定位记号并将所述被曝光基板定位后，朝向与所述输送方向交叉的方向使所述第1轴移动第1轴校正量、使所述第2轴移动第2轴校正量，从而对所述被曝光基板的定位进行校正。

5.如权利要求1～4中的任一项所述的被曝光基板的定位校正方法，其特征在于，

所述校正量算出步骤中，将针对每个不同形状的被曝光基板算出的校正量存储存储于存储存储单元，

所述定位校正步骤中，使用针对每个不同形状的被曝光基板存储存储的所述校正量，对所述被曝光基板的定位进行校正。

6.一种曝光装置，其是在将通过输送单元在输送方向上被输送的被曝光基板依次曝光时，基于之前被曝光了的被曝光基板的定位的偏移，对之后被曝光的被曝光基板的定位进行校正并进行曝光的曝光装置，其特征在于，具备：

为了对在所述输送方向上被输送来的被曝光基板的定位偏移进行观测，检测出在被曝光基板上预先设定的第1观测点和第2观测点的坐标的坐标检测单元；

基于所述被检测出的坐标相对于根据所述第1观测点和第2观测点预先设定的基准线的偏移算出校正量的校正量算出单元；以及

基于所述被算出的校正量对之后被曝光的被曝光基板的定位进行校正的定位校正单元。