[发明专利]被曝光基板的定位校正方法及曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及对相对于光掩模被定位后的被曝光基板所产生的定位偏移进行校正的被曝光基板的定位校正方法以及曝光装置，具体来说，涉及基于根据之前曝光过的被曝光基板的定位偏移而计算出的校正量，对之后曝光的被曝光基板的定位进行校正，从而使定位的精确度得以提高的被曝光基板的定位校正方法以及曝光装置。

背景技术

以往的被曝光基板的定位校正方法是：通过具有在与被曝光基板的输送方向正交的方向上成直线状排列的多个受光元件的摄像单元，对被曝光基板上形成的矩形的多个像素进行摄像，基于其摄像图像的亮度信息检测出被曝光基板的左端像素的左侧边缘的位置，算出该左端像素的左侧边缘的位置与摄像单元上预先设定好的基准位置之间的位置偏移量，为了对该位置偏移量进行校正，将光掩模在与被曝光基板的输送方向正交的方向上移动，以使光掩模与被曝光基板对齐。（例如参照专利文献1）。

现有技术文献专利文献

专利文献1：特开2008-76709号公报

发明内容

发明要解决的课题

但是，在上述以往的被曝光基板的定位校正方法中，由于被曝光基板的定位的校正是对被输送来的被曝光基板的定位偏移进行检测，并在该检测时进行的，所以在由于热引起的曝光装置的变形等导致定位记号检测用的相机的位置发生偏移、曝光开始前的被曝光基板的定位精确度下降的情况下，会存在定位的校正来不及进行、使曝光不良发生的可能性。

于是，作为此类问题对策，本发明要解决的课题是：提供一种在曝光开始前的被曝光基板的定位精确度下降的情况下，使被曝光基板的定位精确度得以提高的被曝光基板的定位方法及曝光装置。

解决课题的手段

为解决上述课题，本发明的被曝光基板的定位校正方法是在将通过输送单元在输送方向上被输送的被曝光基板依次曝光时，基于之前被曝光了的被曝光基板的定位的偏移，对之后被曝光的被曝光基板的定位进行校正的被曝光基板的定位校正方法，其特征在于，具有以下的步骤：为了对在所述输送单元上被输送来的被曝光基板的定位偏移进行观测，检测出在被曝光基板上预先规定的第1观测点和第2观测点的坐标的坐标检测步骤；基于所述被检测出的坐标相对于根据所述第1观测点和第2观测点预先规定的基准线的偏移算出校正量的校正量算出步骤；以及基于所述被算出的校正量对之后被曝光的被曝光基板的定位进行校正的定位校正步骤。

另外，所述被曝光基板的定位是，基于通过设于所述输送方向的前部侧的第1相机和设于后部方向的第2相机检测出在被曝光基板表面上形成的第1定位记号和第2定位记号的信息而进行的，所述校正量算出步骤中，基于所述第1观测点和第2观测点的坐标相对于所述基准线的偏移算出平移量和增益量，所述平移量是设于被曝光基板的输送方向的前部侧的第1定位记号和设于后部侧的第2定位记号在与输送面平行的面内朝向与所述输送方向交叉的方向的校正量，所述增益量是相对于所述被曝光基板的基准线的倾斜的校正量，所述定位校正步骤中，通过所述第1相机和第2相机检测到所述第1定位记号和第2定位记号并将所述被曝光基板定位后，使所述第1定位记号和第2定位记号相对于该两者的中心分别点对称地旋转所述增益量、在与所述输送方向交叉的方向上移动所述平移量，通过所述第1相机和第2相机进行的检测从而对所述被曝光基板的定位进行校正。

而且，所述被曝光基板的定位是，基于通过设于所述输送方向的前部侧的第1相机和设于后部方向的第2相机检测出在被曝光基板表面上形成的第1定位记号和第2定位记号的信息而进行的，所述校正量算出步骤中，基于所述第1观测点和第2观测点的坐标相对于所述基准线的偏移，算出在与输送面平行的面内朝向与所述输送方向交叉的方向的所述第1相机的校正量即第1相机校正量、以及所述第2相机的校正量即第2相机校正量，所述定位校正步骤中，通过朝向与所述输送方向交叉的方向使所述第1相机移动所述第1相机校正量、使所述第2相机移动所述第2相机校正量，从而对所述被曝光基板的定位进行校正。