[发明专利]低含水性软质眼用透镜及其制备方法

权利要求书

1. 低含水性软质眼用透镜，其为含有基底的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，

在所述基底表面的至少一部分形成由亲水性聚合物构成的层，至少所述层内的一部分交联。

2. 低含水性软质眼用透镜，其特征在于，具备

形成透镜形状的含硅基底，和

通过对上述含硅基底实施涂布，在上述含硅基底表面的至少一部分形成的由亲水性聚合物构成的层，

上述亲水性聚合物含有氮原子，并且不含硅原子，

在将上述涂布前的透镜表面的N/Si元素含量比计为X，将上述涂布后、且擦洗前的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Y，进而将擦洗后的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Z时，满足Y-X≥0.05且Z-X≥0.04，其中，所述N/Si元素含量比为上述氮原子含有率相对于硅原子含有率的比例。

3. 低含水性软质眼用透镜，其特征在于，具备

形成透镜形状的含硅基底，和

在上述含硅基底表面的至少一部分形成的由亲水性聚合物构成的层，

上述亲水性聚合物含有氮原子，并且不含硅原子，

在将擦洗前的透镜表面的N/Si元素含量比计为Y，将擦洗后的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Z时，满足Y-Z≤0.05，其中，所述N/Si元素含量比为上述氮原子含有率相对于硅原子含有率的比例。

4. 权利要求1~3中任一项的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，上述亲水性聚合物为酸性聚合物和/或碱性聚合物。

5. 权利要求1~4中任一项的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，在上述基底与上述层之间至少一部分交联。

6. 权利要求1~4中任一项的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，上述层内的一部分通过在至少附着有上述亲水性聚合物的状态下对上述基底照射辐射线而交联。

7. 权利要求1~6中任一项的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，上述基底以下列成分A的聚合物或下列成分A和成分B的共聚物为主要成分：

成分A：每1分子具有多个聚合性官能团，数均分子量为6000以上的聚硅氧烷化合物；

成分B：具有氟烷基的聚合性单体。

8. 权利要求1~7中任一项的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，上述层通过进行1次或2次的利用酸性聚合物溶液的处理和1次或2次的利用碱性聚合物溶液的处理，共进行3次处理而形成。

9. 权利要求8的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，上述层通过进行2次的利用2种酸性聚合物溶液的处理和1次的利用碱性聚合物溶液的处理而形成。

10. 权利要求1~3中任一项的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，形成上述层的至少1种亲水性聚合物为具有选自羟基和酰胺基的基团的聚合物。

11. 低含水性软质眼用透镜的制备方法，其特征在于，依次包括下列工序1~工序4：

<工序1>

将单体的混合物聚合，得到低含水性软质的透镜形状的成形物的工序；

<工序2>

在将成形物与碱性聚合物溶液接触后，洗涤除去剩余的所述碱性聚合物溶液的工序；

<工序3>

在将成形物与酸性聚合物溶液接触后，洗涤除去剩余的所述酸性聚合物溶液的工序；

<工序4>

对成形物照射辐射线的工序。

12. 低含水性软质眼用透镜的制备方法，其特征在于，

包括对形成透镜形状的含硅基底，在所述含硅基底表面的至少一部分通过涂布形成由酸性聚合物和碱性聚合物构成的层的工序，

上述碱性聚合物和酸性聚合物中的至少1种聚合物含有氮原子，并且不含硅原子，

在将上述涂布前的透镜表面的N/Si元素含量比计为X，将上述涂布后、且擦洗前的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Y，进而将擦洗后的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Z时，满足Y-X≥0.05且Z-X≥0.04，其中，所述N/Si元素含量比为上述氮原子含有率相对于硅原子含有率的比例。