[发明专利]能够进行热处理的低辐射玻璃及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及低辐射玻璃及其制造方法，更为详细地，涉及能够进行热处理，并且耐久性也优秀的低辐射玻璃及其制造方法。

背景技术

低辐射玻璃（Low-Emissivity glass）是指以薄膜的方式蒸镀低辐射层的玻璃，上述低辐射层包含如银（Ag）之类的在红外线区域中反射率高的金属。这种低辐射玻璃为在夏天反射太阳辐射热，在冬天储存从室内的取暖器产生的红外线，从而带来建筑物的节能效果的功能性材料。与低辐射玻璃相关的技术已公知于韩国公开专利公报第10-2010-0021355号等多个文献。

一般来说，由于用作低辐射层的银（Ag）容易被氧化，因而在上述低辐射层的上部、下部蒸镀电介质层作为抗氧化膜。并且，这种电介质层还起到增加可见光透射率的作用。

现有的电介质层由金属氧化物构成，且使用锌（Zn）、钛（Ti）、锡（Sn）等的氧化物或锌和锡的复合金属（SnZn）等。但是，在构成现有的电介质层的金属氧化物的情况下，由于在进行热处理后，在与氧化物相邻的金属层之间容易产生界面反应，因而具有热处理前后的可见光透射率容易改变的缺点。

发明内容

技术问题

本发明用于解决如上所述的问题，其目的在于，提供在热处理前后也没有辐射率等特性的变化的低辐射玻璃及其制造方法。

技术方案

用于实现上述一个目的的本发明的实施例的低辐射玻璃，其特征在于，包括：太阳光调节金属层，形成于玻璃基材的上部，第一电介质层，形成于上述太阳光调节金属层的下部，第二电介质层，形成于上述太阳光调节金属层的上部，以及最上部保护层，形成于上述第二电介质层的上部；上述第一电介质层具有由最下部电介质层与下部金属保护电介质层层叠的结构，上述最下部电介质层包含金属氧化物，上述下部金属保护电介质层包含金属（氧）氮化物。

用于解决上述其他目的的本发明的实施例的低辐射玻璃的制造方法，其特征在于，包括：步骤（a），在玻璃基材的上部蒸镀金属氧化物，并在被蒸镀的上述金属氧化物的上部蒸镀金属（氧）氮化物，来形成第一电介质层；步骤（b），在上述第一电介质层的上部形成太阳光调节金属层；步骤（c），在上述太阳光调节金属层的上部蒸镀金属（氧）氮化物，来形成第二电介质层；以及步骤（d），在上述第二电介质层的上部蒸镀金属氧化物，来形成最上部保护层。

发明的效果

本发明的低辐射玻璃的形成于玻璃基材上的第一电介质层具有由最下部电介质层与下部金属保护电介质层层叠的结构，上述最下部电介质层由金属氧化物构成，上述下部金属保护电介质层由金属（氧）氮化物构成，从而具有上述金属（氧）氮化物从氧化物内的氧的影响中保护太阳光调节金属层的优点。

因此，由于如上所述的结构性特征，本发明的低辐射玻璃具有在热处理后，可见光透射率也很优秀且辐射率也没有变化的优点。

附图说明

图1为表示本发明的实施例的低辐射玻璃的结构的剖视图。

图2为简要表示本发明的实施例的低辐射玻璃的制造方法的流程图。

具体实施方式

以下参照附图详细说明的实施例会让本发明的优点和特征以及实现这些优点和特征的方法更加明确。但是，本发明不局限于以下所公开的实施例，能够以互不相同的各种方式实施，本实施例只用于使本发明的公开内容更加完整，有助于使本发明所属技术领域的普通技术人员完整地理解本发明的范畴，本发明仅由发明要求保护范围来定义。在说明书全文中，相同的附图标记表示相同的结构要素。

以下，参照附图对本发明的低辐射玻璃及其制造方法进行详细说明。

图1为表示本发明的实施例的低辐射玻璃的结构的剖视图。

参照图1，所示的低辐射玻璃100具有包括涂敷于玻璃基材110上的第一电介质层120、太阳光调节金属层130、第二电介质层140以及最上部保护层150的结构。

以下，在基材的“上部（或下部）”或者基材的“上（或下）”形成任意的结构不仅意味着任意的结构与上述基材的上表面（或下表面）相接触而成，而且并不限定上述基材与形成于基材上（或下）的任意结构之间不包括其他结构。

上述玻璃基材110可使用用于建筑领域的通常的钠钙玻璃。根据使用目的，使用于本发明的玻璃基材110可自由地使用厚度为2～12mm的玻璃。