[发明专利]曝光装置和限制液体的方法

说明书

背景技术

本发明关于一种曝光装置、液体保持方法、及元件制造方法。

本申请案主张2011年8月25日申请的美国专利暂时申请61/527，333号、2012年7月9日申请的日本专利申请第2012-153959号及2012年8月23日申请的美国专利申请13/593，079号的优先权，并将其内容援用于此。

关于用于光光刻技术中的曝光装置、液浸曝光装置，举例来说，已被揭露于美国专利申请公开第2009/0046261号中，其通过曝光用光经由液体以曝光一基板为已知的。

发明内容

液浸曝光装置中，例如当液体从既定空间流出时，即有可能发生曝光不良的情形。其结果，有可能产生不良元件。

本发明各态样的目的，在提供一种能抑制曝光不良的发生的曝光装置及液体保持方法。又，本发明各态样的再一目的，在提供一种能抑制不良元件的产生的元件制造方法。

根据本发明第1态样，其提供一种曝光装置，通过液体以曝光用光使基板曝光，具备：配置在曝光用光光路周围的至少一部分，具有物体的上面隔着第1间隙对向、在与物体的上面之间保持液体的第1面的第1构件；相对光路配置在第1面的外侧，具有物体的上面隔着第2间隙对向的第2面的第2构件；相对光路配置在第2面的外侧，用以供应流体的第1供应口；以及配置在第1面与第2面之间，通过第2面与物体上面间之间隙吸引相对光路在第2构件外侧空间的气体的至少一部分的第1吸引口。

根据本发明第2态样，其提供一种曝光装置，通过第1液浸空间的第1液体以曝光用光使基板曝光，其具备：具有曝光用光射出的射出面的光学构件；配置在曝光用光光路周围的至少一部分，用以形成第1液体的第1液浸空间的第1液浸构件；以及相对光路配置在第1液浸构件的外侧，可与第1液浸空间分离形成第2液体的第2液浸空间的第2液浸构件；该第2液浸构件，具有：物体的上面隔着第1间隙对向、在与物体的上面之间保持液体的第1面；相对第1面的中心配置在第1面的外侧，物体的上面隔着第2间隙对向的第2面；相对第1面的中心配置在第2面的外侧，供应流体的第1供应口；以及配置在第1面与第2面之间，通过第2面与物体上面之间的间隙吸引第2面外侧空间的气体的至少一部分的第1吸引口。

根据本发明第3态样，其提供一种元件制造方法，包含：使用第1或第2态样的曝光装置使基板曝光的动作；以及使曝光后的基板显影的动作。

根据本发明第4态样，其提供一种液体保持方法，用于通过基板上的液体以曝光用光使基板曝光的曝光装置，包含：在配置于曝光用光光路周围的至少一部分、基板的上面隔着第1间隙对向的第1构件的第1面与基板的上面之间保持液体的动作；从相对光路配置在第1面外侧、物体的上面隔着第2间隙对向的第2构件的第2面外侧配置的第1供应口供应流体动作；以及从配置在第1面与第2面之间的第1吸引口，通过流过第2面的流体与基板上面之间的间隙吸引相对光路在第2构件外侧空间的气体的至少一部分的动作。

根据本发明第5态样，其提供一种元件制造方法，包含：通过以第4态样的液体保持方法保持的液体的至少一部分使基板曝光的动作；以及使曝光后的基板显影的动作。

根据本发明的上述态样，可抑制曝光不良的发生。此外，根据本发明的上述态样，可抑制不良元件的产生。

附图说明

图1为第1实施形态的曝光装置的概略构成图。

图2为第1实施形态的曝光装置的部分示意图。

图3为第2实施形态的曝光装置的部分示意图。

图4为第3实施形态的曝光装置的部分示意图。

图5为第3实施形态的曝光装置的部分示意图。

图6是以示意方式显示第2构件周围的状态的一实施例的示意图。

图7为第4实施形态的曝光装置的部分示意图。

图8为第4实施形态的曝光装置的部分示意图。

图9为第4实施形态的曝光装置的部分示意图。

图10为第4实施形态的曝光装置的部分示意图。

图11为基板载台的一实施例的示意图。

图12为元件的一工艺流程图。

附图标号说明：

2   基板载台

3   测量载台

8   控制装置

12  终端光学元件

30  第1构件

31  第1面

33  回收口

60  第2构件

61  第2面

103 腔室装置

105 环境控制装置