[发明专利]用于处理塑料基底的方法及用于处理溶液的至少部分再生的装置

权利要求书

1. 一种用于以包括高锰酸盐的处理溶液来处理尤其是蚀刻塑料零件尤其是印刷电路板和印刷电路箔片的方法，其特征在于，所述处理溶液中的碳酸盐化合物的浓度通过冻结和随后过滤来从所述处理溶液移除碳酸盐化合物从而设定成小于200g/l的值，优选为30g/l至150g/l的值，更优选为50g/l至100g/l的值，其中所述处理溶液包括高锰酸钠。

2. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述处理溶液中的高锰酸盐的百分比包括超过50%的高锰酸钠。

3. 根据前述权利要求中的一项所述的方法，其特征在于，通过将所述处理溶液冷却至-12℃至+12℃、优选为从-9℃至+10℃、且更优选为从-7℃至+5℃的冻结温度，从而执行所述碳酸盐化合物的冻结。

4. 根据前述权利要求中的一项所述的方法，其特征在于，所述处理溶液的部分向冷却槽的传递和包括冷却和冻结的碳酸盐的处理溶液从所述冷却槽向下游过滤装置的传递以如此方式实现：使得所述冷却槽中的所述处理溶液的温度不超过所述冻结温度。

5. 根据前述权利要求中的一项所述的方法，其特征在于，由所述处理槽中的所述处理溶液的所述高锰酸盐与所述塑料基底的反应产生的锰酸盐通过使所述处理溶液与电解电池接触来转化成高锰酸盐。

6. 一种装置，通过减小用于根据权利要求1至权利要求5中的一项的方法的实施的所述处理溶液中所包括的碳酸盐化合物的浓度而用于包括高锰酸盐的处理溶液的至少部分再生，所述处理溶液用于塑料零件尤其是印刷电路板和印刷电路箔片的处理和/或蚀刻，其中所述装置包括至少一个冷却槽，所述冷却槽经受待再生的所述处理溶液，且展示了用于使所述碳酸盐化合物与所述处理溶液分离的下游过滤装置。

7. 根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述过滤装置包括至少一个过滤槽和一个过滤器，其中所述过滤槽与负压单元连接。

8. 一种用于实施根据权利要求1至权利要求5中的一项所述的方法的根据权利要求6或权利要求7中的一项的装置的使用。