[发明专利]用于处理塑料基底的方法及用于处理溶液的至少部分再生的装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种具有独立方法权利要求1的特征的用于以包括高锰酸盐的处理溶液处理(尤其是蚀刻)塑料基底(尤其是印刷电路板和印刷电路箔片)的方法。本发明还涉及一种具有独立装置权利要求8的特征的用于包括高锰酸盐的处理溶液的至少部分再生的装置，处理溶液用于塑料零件尤其是印刷电路板和印刷电路箔片的处理和/或蚀刻。

背景技术

以包括高锰酸盐的溶液处理或蚀刻塑料基底(如，塑料模制零件或尤其是印刷电路板或印刷电路箔片)通常作为用于基底的表面或开孔的金属喷镀的准备步骤实现。因此，基底以水平输送方向被带入成与浸渍机或隧道机的处理槽中的适合的处理溶液相接触，其中溶液的温度可在50℃和大约100℃之间。

EP1657324B1公开了一种用于通过以蚀刻溶液蚀刻来金属喷镀绝缘或非传导基底的方法，其中基底表面的粗加工和金属喷镀的浓度、温度和时间受控。

由于此类处理溶液在用于较长的时间周期时失去其处理性质，故其必须有规律地补充，或者完全地或部分地替换，这继而又是昂贵的。

发明内容

本发明的第一目的在于提供一种通过使用包括高锰酸盐的处理溶液来处理(尤其是蚀刻)塑料基底(尤其是印刷电路板和印刷电路箔片)的方法，这使得能够延长处理溶液的使用。第二目的在于提供一种有效且节省成本的处理溶液再生的装置，以便实现方法的目的。

这些目的可通过独立权利要求的主题来实现。本发明的有利优选实施例的特征由从属权利要求产生。为了实现提到的第一目的，本发明提议了一种以包括高锰酸盐的处理溶液来处理(尤其是蚀刻)塑料基底如塑料模制零件且尤其是印刷电路板和印刷电路箔片的方法。这旨在通过该方法：基于碳酸钠Na₂CO₃的碳酸盐浓度通过从处理溶液移除碳酸盐化合物来设定成溶解形式的处理溶液中的碳酸盐化合物的期望值。溶解的碳酸盐化合物在这里通过冻结且随后通过过滤而从处理溶液移除来转化成固体形式。在本发明的背景下的过滤必须理解为从溶液移除固体颗粒的过程。

期望值在本发明中设定成小于200g/l的值，作为优选，用于该方法的处理溶液中的碳酸盐化合物的浓度设定成30g/l至150g/l的值，且更优选的是，在处理溶液中的碳酸盐化合物的浓度设定成50g/l至100g/l的值。碳酸盐为来自处理溶液与塑料基底的反应的反应产物。

碳酸盐化合物的冻结可通过将处理溶液完全地或部分地传递至冷却槽且随后冷却该冷却槽中的处理溶液来实现。将包括冷却和冻结的碳酸盐的处理溶液随后从冷却槽传递至下游过滤装置使得碳酸盐能够通过过滤而从溶液移除。

为了通过冻结和随后过滤来从处理溶液移除碳酸盐化合物，处理溶液包括高锰酸钠。处理溶液中的高锰酸盐的百分比包括超过50%的高锰酸钠(Na₂MnO₄)。

在本发明的方法中，冻结碳酸盐化合物尤其是可通过冷却处理溶液至冻结温度来进行，冻结温度为-12℃至+12℃、优选为从-9℃至+10℃，且更优选为从-7℃至+5℃。

用于移除碳酸盐的方法可以以如此方式执行：使得展示例如50℃至98℃的处理温度的待再生的高锰酸盐溶液从处理槽传递至冷却槽。因此，溶液可经过一个或两个预冷却器。在冷却槽中，溶液被冷却至冻结温度，即，至0℃或更低的温度，以便固体碳酸盐晶体由于低温而在溶液中形成。在达到冻结温度之后，可能还在达到冻结温度之后的某一附加等待时间之后，具有碳酸盐晶体的溶液完全地或更优选为部分地从冷却槽移动至过滤装置。在该处，晶体被滤出，可能由施加到过滤器上的负压支持。滤液可移回处理槽，其中滤液可经过一个预冷却器，由此滤液可自动地被再次加热。由碳酸盐晶体形成的滤饼可被洗涤出过滤器，且传送至流出物。

该方法的另一个有利实施例包括：除规定的方法之外，实现了如例如WO0190442A1中所述的处理溶液的电解高锰酸盐再生。通过使处理溶液与适合的电解电池接触的阳极氧化，由处理槽中的处理溶液的高锰酸盐与塑料基底的反应产生的锰酸盐转化回高锰酸盐。尤其是通过用于通过电解高锰酸盐再生来设定处理溶液中的特定碳酸盐浓度的本发明的至少一个方法的如此组合，高锰酸盐再生的效率可提高，且可实现处理溶液的改善的较长寿命。