[发明专利]移动体装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法有效
申请号: | 201280042125.X | 申请日: | 2012-08-30 |
公开(公告)号: | CN103765554B | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
发明(设计)人: | 青木保夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 汤在彦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 移动 装置 曝光 平板 显示器 制造 方法 元件 | ||
1.一种移动体装置,其特征在于,具备:
第1移动体,可在沿与水平面平行的二维平面内的第1方向的位置移动;
第2移动体,设于所述第1移动体,能与所述第1移动体一起在沿所述第1方向的位置移动,且能相对所述第1移动体沿在所述二维平面内与所述第1方向正交的第2方向的位置移动;
物体保持构件,保持物体,被所述第2移动体诱导而沿所述二维平面移动;
第1导引构件,在所述第1方向配置于所述第1移动体一侧,从下方支承在所述物体保持构件沿所述第2方向移动时所述物体保持构件在所述第1方向的一侧区域,且能与所述物体保持构件一起沿所述第1方向移动;以及
第2导引构件,在所述第1方向配置于所述第1移动体另一侧,从下方支承在所述物体保持构件沿所述第2方向移动时所述物体保持构件在所述第1方向的另一侧区域,且能与所述物体保持构件一起沿所述第1方向移动。
2.根据权利要求1所述的移动体装置,其特征在于,所述物体保持构件以非接触方式支承于所述第1及第2导引构件。
3.根据权利要求2所述的移动体装置,其特征在于,所述物体保持构件通过供应至所述物体保持构件与所述第1导引构件之间、以及所述物体保持构件与第2导引构件之间的气体的静压以非接触方式悬浮于所述第1及第2导引构件上。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的移动体装置,其特征在于,进一步具备将所述物体保持构件相对所述第2移动体往所述第1及第2方向、以及绕与所述水平面正交的轴微幅驱动的致动器。
5.根据权利要求4所述的移动体装置,其特征在于,所述物体保持构件通过所述致动器产生的推力沿所述水平面被所述第2移动体诱导。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的移动体装置,其特征在于,进一步具备将所述第1移动体与所述第1及第2导引构件物理性连结的连结构件。
7.一种曝光装置,其特征在于,具备:
权利要求1至6中任一项所述的移动体装置;以及
使用能量束于保持于所述物体保持构件的所述物体形成既定图案的图案形成装置。
8.根据权利要求7所述的曝光装置,其特征在于,在对所述物体形成所述图案时,所述移动体装置使所述物体相对所述能量束沿所述第2方向移动。
9.根据权利要求7或8所述的曝光装置,其特征在于,所述物体用于平板显示器装置的基板。
10.根据权利要求9所述的曝光装置,其特征在于,所述基板至少一边的长度或对角长为500mm以上。
11.一种平板显示器的制造方法,其特征在于,包含:
使用权利要求9或10所述的曝光装置使物体曝光的动作;以及
使曝光后的所述物体显影的动作。
12.一种元件制造方法,其特征在于,包含:
使用权利要求7或8所述的曝光装置使物体曝光的动作;以及
使曝光后的所述物体显影的动作。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康,未经株式会社尼康许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280042125.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造