[发明专利]移动体装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法有效
申请号: | 201280042125.X | 申请日: | 2012-08-30 |
公开(公告)号: | CN103765554B | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
发明(设计)人: | 青木保夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 汤在彦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 移动 装置 曝光 平板 显示器 制造 方法 元件 | ||
技术领域
本发明是关于移动体装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法,更详言的,是关于将保持物体的物体保持构件沿水平面驱动的移动体装置、包含前述移动体装置而于前述物体形成既定图案的曝光装置、使用前述曝光装置的平板显示器的制造方法、以及使用前述曝光装置的元件制造方法。
背景技术
以往,在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子元件(微型元件)的光刻工艺中,是使用一边使掩膜或标线片(以下总称为“掩膜”)与玻璃板或晶片(以下总称为“基板”)沿既定扫描方向(SCAN方向)同步移动、一边使用能量束将形成于掩膜的图案转印至基板上的步进扫描方式的曝光装置。
作为此种曝光装置,由于是以高速且高精度控制基板的水平面内的位置(扫描方向、交叉扫描方向、以及绕正交于水平面的轴线的方向的位置),因此已知一种具有所谓支架(gantry)类型的2轴粗动载台与微动载台组合而成的粗微动构成的基板载台装置者(参照例如专利文献1)。
随着近年基板的大型化,基板载台装置亦随之大型化,因而被期望有一种简单构成且能以高精度且高速进行大型基板的水平面内的位置控制的基板载台装置。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:美国发明专利申请公开第2010/0018950号。
发明内容
用以解决课题的手段
本发明有鉴于上述情事而为,从第1观点观之,为一种移动体装置,其具备:第1移动体,可在沿与水平面平行的二维平面内的第1方向的位置移动;第2移动体,设于前述第1移动体,能与前述第1移动体一起在沿前述第1方向的位置移动,且能相对前述第1移动体沿在前述二维平面内与前述第1方向正交的第2方向的位置移动;物体保持构件,保持物体,被前述第2移动体诱导而沿前述二维平面移动;第1导引构件,在前述第1方向配置于前述第1移动体一侧,从下方支承在前述物体保持构件沿前述第2方向移动时该物体保持构件在前述第1方向的一侧区域,且能与前述物体保持构件一起沿前述第1方向移动;以及第2导引构件,在前述第1方向配置于前述第1移动体另一侧,从下方支承在前述物体保持构件沿前述第2方向移动时该物体保持构件在前述第1方向的另一侧区域,且能与前述物体保持构件一起沿前述第1方向移动。
藉此,物体保持构件是通过第1及第2移动体沿与水平面平行的二维平面被诱导。从下方支承物体保持构件在第1方向的一侧及另一侧区域的第1及第2导引构件,由于与物体保持构件一起沿第1方向移动,因此装置的构成简单。
本发明从第2观点观之,为一种曝光装置,其具备:本发明第1观点的移动体装置;以及使用能量束于保持于前述物体保持构件的前述物体形成既定图案的图案形成装置。
本发明从第3观点观之,为一种平板显示器的制造方法,其包含:使用本发明第2观点的曝光装置使前述物体曝光的动作;以及使曝光后的前述物体显影的动作。
本发明从第4观点观之,为一种元件制造方法,其包含:使用本发明第2观点的曝光装置的曝光装置使前述物体曝光的动作;以及使曝光后的前述物体显影的动作。
附图说明
图1为概略显略一实施形态的液晶曝光装置的构成的图。
图2为图1的液晶曝光装置所具有的基板载台装置的俯视图。
图3为图2的B-B线剖面图。
具体实施方式
以下,使用图1~图3说明一实施形态。
图1为概略显示一实施形态的液晶曝光装置10的构成。液晶曝光装置10是用于液晶显示装置(平板显示器)等的矩形(角型)玻璃基板P(以下单称为基板P)为曝光对象物的步进扫描方式的投影曝光装置、亦即所谓扫描机。
液晶曝光装置10包含照明系12、保持掩膜M的掩膜载台14、投影光学系16、基板载台架台18、保持于表面(在图1中为朝向+Z侧的面)涂布有抗蚀剂(感应剂)的基板P的基板载台装置20、以及此等的控制系等。以下的说明中,将在曝光时掩膜M与基板P相对投影光学系16分别相对扫描的方向设为X轴方向、将在水平面内与X轴正交的方向设为Y轴方向、将与X轴及Y轴正交的方向设为Z轴方向,且将绕X轴、Y轴、及Z轴的旋转方向分别设为θx、θy、及θz方向。
照明系12,与例如美国发明专利第5,729,331号说明书等所揭示的照明系为相同构成。亦即,照明系12是将曝光用的照明光IL照射于掩膜M。照明光IL使用例如i线(波长365nm)、g线(波长436nm)、h线(波长405nm)等的光(或者上述i线、g线、h线的合成光)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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