[发明专利]氧的清除

权利要求书

1.氧清除结构，此处称为“OSS”，所述OSS包含： 

生成氢的工具，其包括经安置以在与湿气反应时生成分子氢的活性物质；和 

用于催化氢和氧之间的反应的催化剂。 

2.如权利要求1所述的结构，其中所述OSS包括第一结构区域，其由具有最大面积的OSS的面限定，其中所述OSS以mm²计的每单位面积所述第一结构区域包括小于0.01μg的催化剂。 

3.如权利要求1或权利要求2所述的结构，其中所述OSS包括小于0.000200g催化剂。 

4.如前述权利要求之一所述的结构，其中基于所述OSS的总重量，所述OSS包括小于100ppm催化剂。 

5.如前述权利要求之一所述的结构，其中所述催化剂分散于一种或多种物质中，所述物质为所述OSS的一部分，其中分散有催化剂的一种或多种物质分散占据OSS内的第一结构体积，其中所述第一结构体积小于15000mm³且为至少100mm³。 

6.如权利要求5所述的结构，其中分散有催化剂的所述一种或多种物质以mm³计的每单位体积所述一种或多种物质包括至少0.005μg催化剂。 

7.如权利要求5或权利要求6所述的结构，其中所述第一结构体积包括0.00000050g-0.000160g催化剂。 

8.如前述权利要求之一所述的结构，其中催化剂体积-面积比例(CVR)如下定义： 

其中所述CVR为至少0.2。 

9.如前述权利要求之一所述的结构，其中所述OSS包括用于控制湿气的传递的控制工具，其中所述控制工具包含水汽可渗透性小于5.0g.mm/m².天的物质的层。 

10.如权利要求9所述的结构，其中在第一层中提供所述控制工具的至少一部分，且第二层包含所述生成氢的工具，其包含与所述活性物质相联系的基质。 

11.如权利要求10所述的结构，其中催化剂分散于所述第一层或所述第二层中，其中所述第一层和第二层的体积之和定义为以mm³记的“总体积”，且所述OSS以mm³计每单位体积的所述“总体积”包括小于0.20μg的催化剂。 

12.如权利要求10或权利要求11所述的结构，其中所述第一或第二层中的至少一层包括小于100ppm催化剂。 

13.如权利要求10-12之一所述的结构，其中所述第一和第二层一起包括小于50ppm催化剂。 

14.如权利要求10-13之一所述的结构，其中所述第一层包括所述催化剂中的至少一些。 

15.如权利要求10-14之一所述的结构，其中所述第一层的最大厚度为小于5mm且所述第二层的最大厚度为小于3mm。 

16.如前述权利要求之一所述的结构，其中所述OSS包括包含三层或更少层的含催化剂的结构，且所述含催化剂的结构具有暴露于所用的容器体的内部的表面积，其中所述表面积为小于5000mm²。 

17.如前述权利要求之一所述的结构，其中所述生成氢的工具的重量处除以所述OSS中催化剂的重量的比例在50-20000的范围内。 

18.如前述权利要求之一所述的结构，其中所述OSS包含用于容器体的盖，所述盖包含生成氢的工具，其包括经安置以在与湿气反应时生成分子氢的活性物质；和用于催化氢和氧之间的反应的催化剂。 

19.如权利要求18所述的结构，其中所述盖包括小于0.000200g催化剂。 

20.如权利要求18或权利要求19所述的结构，其中基于所述盖的总重量，所述盖包括小于10ppm催化剂。 

21.如权利要求18-20之一所述的结构，其中所述催化剂分散于与所述盖相联系的一种或多种物质中，其中所述一种或多种物质占据所述盖中的第一体积，其中所述第一体积为小于15000mm³且至少为100mm³。