[发明专利]集成的异构化和加氢处理方法

权利要求书

1.处理烃进料以降低不希望的有机硫化合物浓度的方法，其包括：

在约320℃-约360℃的馏出温度下分馏烃进料以提供

包含不稳定有机硫化合物的低沸点馏分和

包含位阻难降解有机硫化合物的高沸点馏分；

在氢的存在下使高沸点馏分与异构化催化剂接触以除去特定化合物的位阻并且产生包含异构化产物和任何剩余的未反应的氢的异构化的流出物；

使低沸点馏分和异构化的流出物经受温和的加氢处理过程以由此降低硫含量；和

回收加氢处理的烃产物。

2.根据权利要求1的方法，其进一步包括：在使高沸点馏分与异构化催化剂接触之前，使高沸点馏分与吸附剂材料接触以降低含氮化合物浓度，从而产生吸附流出物。

3.根据权利要求1的方法，其中馏出温度为约340℃。

4.根据权利要求1的方法，其中低沸点馏分包括脂肪族有机硫化合物。

5.根据权利要求4的方法，其中脂肪族有机硫化合物包括硫化物、二硫化物和硫醇。

6.根据权利要求4的方法，其中低沸点馏分进一步包括噻吩和噻吩的烷基衍生物。

7.根据权利要求1的方法，其中高沸点馏分包括具有高沸点馏分范围中的沸点的二苯并噻吩、二苯并噻吩的烷基衍生物和苯并噻吩的长链烷基化衍生物。

8.根据权利要求2的方法，其中使高沸点馏分与吸附剂材料接触的步骤包括：

a.使高沸点馏分通过两个填料塔的第一个；

b.在中断通过第一塔的通道的同时将高沸点馏分从第一塔转移至第二塔；

c.从第一塔中的吸附剂材料解吸并且除去含氮化合物和/或多核芳族化合物以由此再生吸附剂材料；

d.在中断通过第二塔的流的同时将高沸点馏分从第二塔转移至第一塔；

e.从第二塔中的吸附剂材料解吸并且除去含氮化合物和/或多核芳族化合物以由此再生吸附剂材料；和

f.重复步骤(a)-(e)，由此持续处理高沸点馏分。

9.根据权利要求2的方法，其中

烃进料为在约180℃-约450℃的范围中沸腾、包含约0.05重量%-约2重量%的硫和约10ppmw-约3,000ppmw的氮的直馏粗柴油；

温和的加氢处理过程中的操作条件包括约20bar-约40bar的氢分压、约320℃-约380℃的温度和约200升氢(标准化)/升油-约300升氢(标准化)/升油的温和的加氢处理过程中的氢进料速率，

加氢处理的烃产物的硫含量小于约15ppmw；和

加氢处理的烃产物的氮含量小于约10ppmw。

10.用于处理包含不希望的有机硫化合物的烃进料的装置，其包含：

对在约320℃-约360℃的馏出温度下闪蒸烃进料来说可操作的分馏塔，所述分馏塔包含

用于接收烃进料的入口，

用于排出包含不稳定有机硫化合物的低沸点馏分的低沸点出口，和

用于排出包含难降解有机硫化合物的高沸点馏分的高沸点出口；

异构化反应区域，具有与高沸点出口流体连通的入口、氢入口和用于排出具有除去位阻异构化化合物的高沸点馏分的异构化反应区域出口；和

具有氢入口和与异构化反应区域出口及低沸点出口流体连通的入口的加氢处理区域，所述加氢处理区域包含用于排出加氢处理的烃产物的加氢处理区域出口。

11.根据权利要求10的装置，其进一步包含具有与高沸点出口流体连通的入口的吸附区域和用于排出具有降低浓度的含氮化合物的提取物的吸附区域出口，其中异构化反应区域入口与吸附区域出口流体连通。