[发明专利]表面具有微细凹凸结构的构件的检查装置及检查方法、表面具有阳极氧化铝层的构件的制造方法、以及光学薄膜的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及表面具有微细凹凸结构的构件的检查装置及检查方法、表面具有阳极氧化铝层的构件的制造方法、以及光学薄膜的制造方法。

背景技术

表面形成有表面间距为可见光波长以下的微细凹凸结构的薄片等构件由于表现超亲水性、超疏水性、低反射等功能，其有用性正受到关注。特别是已知被称为蛾眼（Moth-eye）结构的微细凹凸结构的折射率从空气的折射率向构件材料的折射率连续变化，因此表现优异的防反射功能。

作为这种表面具有微细凹凸结构的构件的制造方法，已知有（i）对基材本身的表面直接加工而形成表面具有微细凹凸结构的构件的方法；（ii）使用表面形成有与构件表面的微细凹凸结构互补的微细凹凸结构的转印模具，转印模具的微细凹凸结构转印到透明基材等构件本身的表面的方法（例如专利文献1）等，在生产率等观点方面，（ii）的方法在工业上优异。

作为在模具的外表面形成反转结构的方法，已知有电子束绘制法、激光干涉法等。近年来，作为能够更简单地形成反转结构的方法，将铝基材的表面阳极氧化的方法正在受到关注（例如参照专利文献2）。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2010-201641号公报

专利文献2:日本特开2005-156695号公报

发明内容

发明要解决的问题

通过将铝基材的表面阳极氧化而形成的阳极氧化铝层为铝的氧化覆膜（耐酸铝），具有间距为可见光波长以下的多个细孔（微细凹凸结构）。

这种具有微细凹凸结构的阳极氧化铝层中，阳极氧化时浸渍铝基材的电解液的浓度、温度有不均匀或者铝基材表面的性状有参差时，会有阳极氧化铝层表面的微细凹凸结构的形状（细孔深度、内径、细孔间的间距等）、阳极氧化铝的厚度等出现不均匀的情况。这种情况下，无法对薄片构件等转印最适合的微细凹凸结构。

另外，作为阳极氧化铝的材料的铝基材可以使用纯度高的铝基材，但用于制造纯度高的铝基材的高纯度铝的晶粒易因铸造等而粗大化，在铝基材中会出现肉眼也能够观察到的程度的粗晶粒。因此，使用这种铝基材制造出的模具的阳极氧化铝的表面也会出现同样的晶界图案。对此，目前为了将由于晶粒而产生的图案微细化且均匀化，实施通过压延、挤出和锻造等来制造铝基材。然而，即使实施这种工序，锻造前的铸造时的粗大晶粒的痕迹有时也会根据加工方向、重复次数等条件而形成晶体取向的不均并残留在铝基材中，该斑痕会在由铝基材加工而成的具有微细凹凸结构的模具（主要为基材表面）中以肉眼难以确认的流痕形式残留。这种情况下，流痕会被转印给薄片构件等。

进而，对于具备这种具有微细凹凸结构的阳极氧化铝层的模具，为了改善成型品的脱模性而在表面附着脱模剂。该脱模剂过量附着在具有阳微细凹凸结构的阳极氧化铝层的表面时，会产生微细凹凸结构被脱模剂掩埋、无法将最合适的微细凹凸结构转印到透明基材等的表面的问题。另一方面，脱模剂的量过少时，会有无法获得期望的脱模性的问题。

如上所述的阳极氧化铝层表面的微细凹凸结构的形状不均匀、铝基材的残留、脱模剂的过量或过少的附着会对表面具有微细凹凸结构的薄片构件的生产造成不良影响。因此，需要检查阳极氧化铝的表面状态是否良好，但问题是目前为止不存在简便的检查方法。

本发明的目的在于，提供能够简便地检查上述那样的模具等中所使用的阳极氧化铝等具有微细凹凸结构的构件的表面状态的检查装置及检查方法，以及提供表面具备具有表面状态良好的微细凹凸结构的阳极氧化铝的构件的制造方法。

用于解决问题的方案

本发明的发明人等鉴于上述问题进行了深入研究，结果发现，根据阳极氧化铝等具有微细凹凸结构的构件的表面状态是否良好，由这种具有微细凹凸结构的构件的表面反射的光的颜色会发生变化。即，发现由阳极氧化铝反射的光的颜色反映出具有微细凹凸结构的构件的表面状态是否良好的影响。

进而，本发明的发明人等发现，由具有微细凹凸结构的表面反射的光包含关于具有微细凹凸结构的构件的表面状态是否良好的信息，该反射光根据具有微细凹凸结构的构件的表面状态朝着与形成有阳极氧化铝的表面垂直的方向、或者与形成有阳极氧化铝的表面平行的方向发生偏振。

而且发现，通过利用偏振板等将偏振方向设置为适当的方向，由阳极氧化铝的表面反射的反射光的颜色变化被增强，从而完成了本发明。