[发明专利]光纤母材及光纤的制造方法有效
申请号: | 201280048182.9 | 申请日: | 2012-07-06 |
公开(公告)号: | CN103842306A | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 熊野尚美 | 申请(专利权)人: | 古河电气工业株式会社 |
主分类号: | C03B37/014 | 分类号: | C03B37/014;C03B37/018;G02B6/00;G02B6/036 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘文海 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光纤 制造 方法 | ||
1.一种光纤母材的制造方法,其特征在于,
形成多孔体,该多孔体具有第一区域和在该第一区域的外周形成的第二区域且由玻璃微粒子构成,
进行第一热处理,该第一热处理在含有氟气的气氛下对所述多孔体进行热处理,
进行第二热处理而形成为透明玻璃体,该第二热处理对进行了所述第一热处理后的多孔体在比所述第一热处理高的温度下进行热处理,
在所述透明玻璃体的外周形成包层部。
2.根据权利要求1所述的光纤母材的制造方法,其特征在于,
所述多孔体的第二区域的体积密度为0.1g/cm3~0.4g/cm3。
3.根据权利要求1或2所述的光纤母材的制造方法,其特征在于,
所述第一区域的直径与所述第二区域的外径之比为1∶1.5~1∶6.5。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的光纤母材的制造方法,其特征在于,
进行所述第一热处理的气氛中的氟气的分压为0.02%~0.2%。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的光纤母材的制造方法,其特征在于,
所述第一热处理温度为800℃~1250℃。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的光纤母材的制造方法,其特征在于,
所述第二热处理温度为1300℃~1450℃。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的光纤母材的制造方法,其特征在于,
所述第一热处理通过使所述多孔体相对于加热区域相对移动来进行,所述多孔体相对于加热区域的相对移动速度为100mm/h~400mm/h。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的光纤母材的制造方法,其特征在于,
进行所述第一热处理的气氛包含氯气,所述气氛中的氯气的分压为0.5%~2.5%。
9.一种光纤的制造方法,其特征在于,
使用通过权利要求1~8中任一项所述的制造方法制造出的光纤母材来制造光纤。
10.根据权利要求9所述的光纤的制造方法,其特征在于,
所述光纤的波长1550nm处的传送损失为0.185dB/km以下。
11.根据权利要求9或10所述的光纤的制造方法,其特征在于,
所述光纤中,由所述第一区域形成的中心芯部相对于所述包层部的折射率系数为0.3%~0.45%,由所述第二区域形成的凹陷层相对于所述包层部的折射率系数差为-0.2%~-0.02%,所述中心芯部的直径为7.8μm~18.0μm,所述中心芯部的直径与所述凹陷层的外径之比为1∶1.5~1∶6.5,波长1310nm处的模场直径为8.6μm~11.0μm,截止波长为1550nm以下,零分散波长为1280nm~1340nm。
12.根据权利要求9或10所述的光纤的制造方法,其特征在于,
所述光纤中,由所述第一区域形成的中心芯部相对于所述包层部的折射率系数为0.4%以下,由所述第二区域形成的凹陷层相对于所述包层部的折射率系数差为-0.15%以上,波长1310nm处的模场直径为8.6μm~10.1μm,截止波长为1260nm以下,零分散波长为1300nm~1324nm。
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