[发明专利]用于操作处理容器的系统的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201280049294.6 申请日: 2012-07-20
公开(公告)号: CN103930350A 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 沃尔夫冈·阿恩 申请(专利权)人: 克朗斯股份公司
主分类号: B65C9/40 分类号: B65C9/40;B67C3/00;B67B3/26
代理公司: 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 代理人: 黄威;孙丽梅
地址: 德国新*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 用于 操作 处理 容器 系统 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种用于操作处理容器的系统(A1、A2)的方法,其中所述容器由所述系统的至少一个第一处理单元(B1)处理,并且所述容器由所述系统的至少一个附加处理单元处理,并且其中测量设备(M1)在所述第一处理单元的处理之后或期间确定作为所述容器的几何形状的特征的至少一个参数,其中由所述测量设备确定的作为所述容器的几何形状的特征的至少一个参数被考虑用于布置在所述测量设备之后的所述至少一个附加处理单元和/或其传感器的控制或调整。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述测量设备(M1)在所述第一处理单元(B1)处理之后或期间确定作为至少一个机器元件的磨耗的特征的至少一个参数,也考虑到将作为至少一个机器元件的磨耗的特征的所述至少一个参数用于对布置在所述测量设备之后的所述至少一个附加处理单元和/或其传感器的控制或调整。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,作为所述容器的几何形状的特征的由所述测量设备(M1)确定的所述至少一个参数,和/或作为至少一个机器元件的磨耗的特征的由所述测量设备确定的所述至少一个参数、以及控制和调整命令、以及从其中得出的设定值,直接地或通过中心系统控制单元(ZS)被传送到至少一个附加处理单元,并且用于对所述至少一个附加处理单元的设置和控制。

4.根据上述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于,所述第一处理单元(B1)为灌装和/或密封设备。

5.根据上述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于,在所述测量设备(M1)之后的第一附加处理单元为贴标签设备或盖印设备。

6.根据上述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于,关于制造的容器的作为所述容器的几何形状的特征的至少一个参数或从其中得出的设定值的至少一项信息、和/或关于作为至少一个机器元件的磨耗的特征的至少一个参数的至少一项信息,通过显示设备输出。

7.一种用于处理容器的系统,所述系统包含第一处理单元(B1)、至少一个附加处理单元、以及包含在所述第一处理单元之后或与所述第一处理单元在一起的测量设备(M1),所述系统以这种方式配置:所述测量设备(M1)能确定作为由所述第一处理单元处理期间或之后的容器的几何形状的特征的至少一个参数,并且作为所述容器的形状的特征的至少一个上述参数能用来对布置在所述测量设备之后的至少一个附加处理单元和/或其传感器的控制或调整。

8.根据权利要求7所述的系统,其特征在于,所述系统以这种方式配置:所述测量设备(M1)能确定作为机器元件的磨耗的特征的至少一个参数,和作为布置在所述测量设备之后的所述至少一个附加处理单元和/或其传感器的控制或设定特征的关于至少一个机器元件的磨耗的至少一个上述参数。

9.根据权利要求7或8所述的系统,其特征在于中心系统控制单元(ZS),所述中心系统控制单元(ZS)能够与各个处理单元的控制至少临时性地处于数据通信中,其以这种方式配置:作为所述容器的几何形状的特征的由所述测量设备确定的所述至少一个参数,和/或作为至少一个机器元件磨耗的特征的由所述测量设备(M1)确定的所述至少一个参数、以及控制和调整命令、以及从其中得出的设定值,能够直接地或通过所述中心系统控制单元(ZS)输送到至少一个附加处理单元,并且能够用于所述至少一个附加处理单元的设定和控制。

10.根据上述权利要求7-9中至少一项所述的系统,其特征在于,所述第一处理单元(B1)为灌装和/或密封设备。

11.根据上述权利要求7-10中至少一项所述的系统,其特征在于,在所述测量设备(M1)之后的第一附加处理单元为贴标签设备或盖印设备。

12.根据上述权利要求7-11中至少一项所述的系统,其特征在于,所述系统具有显示设备,其以这种方式配置:能够输出关于制造的容器的作为所述容器的几何形状的特征的至少一个参数或从其中得出的设定值或控制命令的所述至少一项信息,和/或关于作为至少一个机器元件磨耗的特征的至少一个参数或从其中得出的设定值或控制命令的至少一项信息。

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