[发明专利]研磨制品和形成方法

权利要求书

1.一种研磨制品，其包括：

包括线的基底；

固定至所述基底的研磨颗粒，所述研磨颗粒包括：

覆在所述研磨颗粒上面的第一涂覆层；和

覆在所述第一涂覆层上面的不同于所述第一涂覆层的第二涂覆层；和

覆在所述基底和研磨颗粒上面的粘结层。

2.一种研磨制品，其包括：

包括具有至少约10∶1的长度∶宽度的长宽比的细长物体的基底；

固定至所述基底的研磨颗粒；

包括金属材料的不连续的涂层，其限定围绕并覆在所述研磨颗粒的大部分和所述研磨颗粒之间的间隙区域上面的包括低温金属合金(LTMA)材料的涂覆区域。

3.根据权利要求1和2中任一项所述的研磨制品，其中所述基底包括无机材料。

4.根据权利要求1和2中任一项所述的研磨制品，其中所述基底包括选自由金属、金属合金、及其组合组成的材料组的材料。

5.根据权利要求1和2中任一项所述的研磨制品，其中所述基底包括包含过渡金属元素的金属，其中所述基底包括钢。

6.根据权利要求1和2中任一项所述的研磨制品，其中所述基底包括覆在所述基底的外表面上面的涂层。

7.根据权利要求6所述的研磨制品，其中所述基底包括直接结合到所述基底的外表面的涂覆层。

8.根据权利要求1所述的研磨制品，其中所述基底包括具有至少约10∶1的长度∶宽度的长宽比的细长部件。

9.根据权利要求1和2中任一项所述的研磨制品，其中所述基底包括具有至少约100∶1的长度∶宽度的长宽比的细长部件。

10.根据权利要求1和2中任一项所述的研磨制品，其中所述基底包括至少约50m的平均长度。

11.根据权利要求1和2中任一项所述的研磨制品，其中所述基底包括不大于约1cm的平均宽度。

12.根据权利要求1和2中任一项所述的研磨制品，其中所述基底包括至少约0.01mm的平均宽度，其中所述基底包括至少约0.03mm的平均宽度。

13.根据权利要求1和2中任一项所述的研磨制品，其中所述基底基本上由线组成。

14.根据权利要求1和2中任一项所述的研磨制品，其中所述基底包括编织在一起的多根丝。

15.根据权利要求1所述的研磨制品，其中所述第一涂覆层包括选自由金属、金属合金、及其组合组成的材料组的材料。

16.根据权利要求1所述的研磨制品，其中所述第一涂覆层包括过渡金属元素。

17.根据权利要求1所述的研磨制品，其中所述第一涂覆层包括选自由钛、钒、铬、钼、铁、钴、镍、铜、银、锌、锰、钽、钨、及其组合组成的金属组的金属。

18.根据权利要求1所述的研磨制品，其中所述第一涂覆层基本上由镍组成。

19.根据权利要求1所述的研磨制品，其中所述第一涂覆层基本上由铜组成。

20.根据权利要求2所述的研磨制品，其中所述不连续的涂层包括第一涂覆层，所述第一涂覆层包括选自由金属、金属合金组成的材料组的材料。

21.根据权利要求2所述的研磨制品，其中所述第一涂覆层包括选自由钛、钒、铬、钼、铁、钴、镍、铜、银、锌、锰、钽、钨、及其组合组成的金属组的金属。

22.根据权利要求2所述的研磨制品，其中所述第一涂覆层基本上由镍组成或基本上由铜组成。

23.根据权利要求1所述的研磨制品，其中所述第一涂覆层覆在所述研磨颗粒各自的外表面积的至少约50％上面。

24.根据权利要求1所述的研磨制品，其中所述第一涂覆层覆在所述研磨颗粒各自的基本上整个外表面积上面。

25.根据权利要求1和2中任一项所述的研磨制品，其中所述涂覆层与所述研磨颗粒各自的外表面直接接触。

26.根据权利要求1和2中任一项所述的研磨制品，其中所述涂覆层直接电镀至所述研磨颗粒各自的外表面。