[发明专利]有机LED元件的散射层用玻璃、有机LED元件用的层叠基板及其制造方法、以及有机LED元件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201280049959.3 申请日: 2012-10-10
公开(公告)号: CN103874666A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 和田直哉;谷田正道 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: C03C8/16 分类号: C03C8/16;C03C17/04;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/10
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 胡烨
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 有机 led 元件 散射 玻璃 层叠 及其 制造 方法 以及
【权利要求书】:

1.有机LED元件的散射层用玻璃,其特征在于,

以氧化物基准的摩尔%表示,含有26%~43%的B2O3、30%~37%的ZnO、17%~23%的Bi2O3、2%~21%的SiO2、0~2%的P2O5

B2O3和ZnO的总含量为78%以下。

2.如权利要求1所述的有机LED元件的散射层用玻璃,其特征在于,除了作为杂质含有的情况外,实质上不含碱金属氧化物、铅和P2O5;所述碱金属氧化物是指Li2O、Na2O、K2O,所述铅是指PbO、Pb3O4

3.有机LED元件用的层叠基板的制造方法,其是具有透光性基板和散射层的有机LED元件用的层叠基板的制造方法,其特征在于,

所述散射层是在由玻璃构成的基材中分散有折射率与该玻璃不同的散射材料的散射层,通过将包含所述玻璃的原料烧成而形成;

所述玻璃以氧化物基准的摩尔%表示,含有26%~43%的B2O3、30%~37%的ZnO、17%~23%的Bi2O3、2%~21%的SiO2、0~2%的P2O5,B2O3和ZnO的总含量为78%以下。

4.如权利要求3所述的有机LED元件用的层叠基板的制造方法,其特征在于,所述玻璃除了作为杂质含有的情况外,实质上不含碱金属氧化物、铅和P2O5;所述碱金属氧化物是指Li2O、Na2O、K2O,所述铅是指PbO、Pb3O4

5.如权利要求3或4所述的有机LED元件用的层叠基板的制造方法,其特征在于,所述散射层通过在所述玻璃的玻璃化温度+100℃以上的温度下将所述原料烧成而形成。

6.如权利要求3~5中任一项所述的有机LED元件用的层叠基板的制造方法,其特征在于,所述散射材料包含陶瓷粒子。

7.如权利要求6所述的有机LED元件用的层叠基板的制造方法,其特征在于,所述陶瓷粒子的平均粒径为1μm以下。

8.如权利要求6或7所述的有机LED元件用的层叠基板的制造方法,其特征在于,所述陶瓷粒子在所述散射层中所占的比例为5体积%以下。

9.有机LED元件用的层叠基板,其是具有透光性基板和散射层的有机LED元件用的层叠基板,其特征在于,

所述散射层是在由玻璃构成的基材中分散有折射率与该玻璃不同的散射材料的散射层;

所述玻璃以氧化物基准的摩尔%表示,含有26%~43%的B2O3、30%~37%的ZnO、17%~23%的Bi2O3、2%~21%的SiO2、0~2%的P2O5,B2O3和ZnO的总含量为78%以下。

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