[发明专利]有机LED元件的散射层用玻璃、有机LED元件用的层叠基板及其制造方法、以及有机LED元件及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及有机LED元件的散射层用玻璃、有机LED元件用的层叠基板及其制造方法、以及有机LED元件及其制造方法。

背景技术

以往，为了提高有机LED元件的光取出效率，已知在有机LED元件内设置散射层的技术方案(例如参照专利文献1)。散射层是使散射材料分散在由玻璃构成的基材中而成的。该散射层是将粉末状的玻璃(玻璃料)涂布在透光性基板上进行烧成而制成的。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2011/046156号文本

发明内容

发明所要解决的技术问题

另外，如果在玻璃料的烧成时玻璃难以流动，则散射层的表面变得粗糙，因此可能会招致形成于散射层上的电极间的短路。

烧成时的玻璃的流动性由烧成温度、玻璃化温度、玻璃的结晶化的难易程度等来决定。相对于玻璃化温度，烧成温度越高，玻璃越容易流动。

然而，烧成温度的上限由透光性基板的耐热性等来决定。此外，玻璃化温度低的玻璃有在烧成时容易结晶化的倾向，如果发生结晶化，则玻璃的流动性显著下降，因此仅通过降低玻璃化温度，很难提高烧成时的流动性。此外，如果生成晶体，则表面变得粗糙。因此，散射层的表面粗糙度有改善的余地。另外，关于上述内容，专利文献1中没有具体公开。

本发明是鉴于上述课题而完成的发明，其目的是提供能减小散射层的表面粗糙度的有机LED元件的散射层用玻璃、有机LED元件用的层叠基板及其制造方法、以及有机LED元件及其制造方法。

解决技术问题所采用的技术方案

为了达到上述目的，本发明的形态(1)的有机LED元件的散射层用玻璃的特征在于，

以氧化物基准的摩尔％表示，含有26％～43％的B₂O₃、30％～37％的ZnO、17％～23％的Bi₂O₃、2％～21％的SiO₂、0～2％的P₂O₅，

B₂O₃和ZnO的总含量为78％以下。

此外，本发明的形态(2)的有机LED元件用的层叠基板的制造方法是具有透光性基板和散射层的有机LED元件用的层叠基板的制造方法，该方法的特征在于，

所述散射层是在由玻璃构成的基材中分散有折射率与该玻璃不同的散射材料的散射层，通过将包含所述玻璃的原料烧成而形成；

所述玻璃以氧化物基准的摩尔％表示，含有26％～43％的B₂O₃、30％～37％的ZnO、17％～23％的Bi₂O₃、2％～21％的SiO₂、0～2％的P₂O₅，B₂O₃和ZnO的总含量为78％以下。

此外，本发明的形态(3)的有机LED元件用的层叠基板是具有透光性基板和散射层的有机LED元件用的层叠基板，该基板的特征在于，

所述散射层是在由玻璃构成的基材中分散有折射率与该玻璃不同的散射材料的散射层；

所述玻璃以氧化物基准的摩尔％表示，含有26％～43％的B₂O₃、30％～37％的ZnO、17％～23％的Bi₂O₃、2％～21％的SiO₂、0～2％的P₂O₅，B₂O₃和ZnO的总含量为78％以下。

此外，本发明的形态(4)的有机LED元件的制造方法是依次具有透光性基板、散射层、第一电极、有机层、第二电极的有机LED元件的制造方法，该方法的特征在于，

所述散射层是在由玻璃构成的基材中分散有折射率与该玻璃不同的散射材料的散射层，通过将包含所述玻璃的原料烧成而形成；