[发明专利]具有加热器组件的浮质生成装置

权利要求书

1.一种浮质生成装置，其包括：

壳体，所述壳体构造成接收形成浮质的基质，所述形成浮质的基质具有内腔；

加热元件，所述加热元件构造成被接收在所述形成浮质的基质的所述内腔中；和

定位机构，所述定位机构联接到所述加热元件，所述定位机构构造成使加热元件在所述内腔内在多个位置之间运动。

2.根据权利要求1所述的浮质生成装置，其中，所述定位机构还包括接合机构，所述接合机构构造成使所述加热元件朝向和远离所述内腔的内表面运动。

3.根据权利要求2所述的浮质生成装置，其中，所述接合机构构造成使所述加热元件运动成与所述形成浮质的基质的所述内表面相接触以及脱离接触。

4.根据权利要求1、2或3所述的浮质生成装置，其中，所述浮质生成装置构造成接收形成浮质的基质，所述形成浮质的基质是管状的，使得所述内腔是具有纵向轴线的孔，并且其中，所述定位机构构造成使所述加热元件沿着纵向方向运动。

5.根据前述权利要求中的任一项所述的浮质生成装置，其中，所述加热元件是基本环状的或圆形的。

6.根据引用权利要求2时的权利要求5所述的浮质生成装置，其中，所述加热元件具有弹性，并且其中，所述接合机构附接到所述加热元件的至少一个端部，并且所述接合机构构造成使所述加热元件的所述端部沿着圆周方向运动，以便径向扩张或收缩所述加热元件。

7.根据前述权利要求中的任一项所述的浮质生成装置，所述浮质生成装置还包括微控制器，所述微控制器构造成控制供应到所述加热元件的电力，并且构造成在向所述加热元件供应预定量或预定持续时间的电力之后启动所述定位机构。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的浮质生成装置，其中，所述定位机构构造成将电传导到所述加热元件。

9.一种浮质生成装置，其包括：

壳体，所述壳体构造成接收形成浮质的基质；

加热元件，所述加热元件构造成加热所述形成浮质的基质的一部分；和

定位机构，所述定位机构构造成使所述加热元件从靠近所述形成浮质的基质的第一部分的第一位置运动到远离所述形成浮质的基质的第二位置、然后运动到靠近所述形成浮质的基质的第二部分的第三位置。

10.根据权利要求9所述的浮质生成装置，其中，所述壳体构造成接收基本为管状或者圆柱状并且限定纵向轴线的形成浮质的基质，并且其中，所述第三位置纵向地离开所述第一位置。

11.根据权利要求9或10所述的浮质生成装置，其中，在所述第一位置、第二位置或第三位置，所述加热元件定位在所述形成浮质的基质的外部。

12.根据权利要求9或10所述的浮质生成装置，其中，所述浮质生成装置构造成接收包括管状部分的形成浮质的基质，并且所述加热元件构造成在所述第一位置和第三位置定位在所述管状部分内部。

13.根据权利要求9至12中的任一项所述的浮质生成装置，其中，所述加热元件为基本环形或者圆形的。

14.根据前述权利要求中的任一项所述的浮质生成装置，所述浮质生成装置包括多个加热元件，其中，所述定位机构构造成使每个所述加热元件运动。

15.一种加热形成浮质的基质的方法，所述方法包括：

移动加热元件，使加热元件与所述形成浮质的基质的表面的第一部分相接触或者靠近；

启动所述加热元件，以加热所述形成浮质的基质的第一部分；

移动所述加热元件远离所述形成浮质的基质的所述表面；

移动所述加热元件，使所述加热元件与所述形成浮质的基质的所述表面的第二部分相接触或者靠近；和

启动所述加热元件，以加热所述形成浮质的基质的第二部分。