[发明专利]具有加热器组件的浮质生成装置有效

专利信息
申请号: 201280052506.6 申请日: 2012-10-24
公开(公告)号: CN104023568A 公开(公告)日: 2014-09-03
发明(设计)人: D·鲁肖;O·格雷姆;J·普洛茹 申请(专利权)人: 菲利普莫里斯生产公司
主分类号: A24F47/00 分类号: A24F47/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 张涛
地址: 瑞士纳*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要:
搜索关键词: 具有 加热器 组件 生成 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种具有改进的加热器组件的浮质生成装置。本发明特别应用在作为用于加热形成浮质的基质的加热器组件的电操作的发烟系统中。

背景技术

专利申请US-A-5,269,327公开了一种电发烟制品,所述电发烟制品包括多个烟草香味介质的装载物,所述多个烟草香味介质的装载物被顺序地加热,以提供各个抽吸(puff)。这种顺序加热可以通过多个单独启动的加热器元件或者加热器元件的多个部分或者通过单个可运动的加热器元件来实现。

有利的是提供这样一种浮质生成系统,所述浮质生成系统通过提供更先进的、更紧凑的且更有效的解决方案来改进加热形成浮质的基质的已知方案。

发明内容

根据本发明的一个方面,提供一种浮质生成装置,所述浮质生成装置包括:壳体,所述壳体构造成接收形成浮质的基质,所述形成浮质的基质具有内腔;加热元件,所述加热元件构造成被接收在形成浮质的基质的内腔内;和定位机构,所述定位机构联接到加热元件,所述定位机构构造成使加热元件在内腔内在多个加热位置之间运动。

在形成浮质的基质内使用可运动的加热元件意味着能够以最小的热量损失实现有效加热。与定位在外部的加热器元件相比,因为不需要隔热,所以在形成浮质的基质内使用加热元件还意味着能够最小化装置的外径。加热元件需要在形成浮质的基质内运动的距离可以非常小,并且小于在加热元件定位在形成浮质的基质外部的情况下加热元件需要在基质的对应部分之间运动的距离。

定位机构可以联接到壳体。优选地,定位机构还包括接合机构。接合机构构造成使加热元件朝向内腔的内表面或远离内腔的内表面运动。更优选地,接合机构构造成使加热元件运动成与形成浮质的基质的内表面相接触或者脱离接触。这允许加热期间的从加热元件到形成浮质的基质的有效热传递。接合机构还允许在加热元件未启动时在加热位置之间顺畅地运动,并且还允许容易地插入和移除形成浮质的基质。

加热元件可以放置成与形成浮质的基质直接热接触,或者可以定位成靠近基质而不与所述基质接触。替代地,加热元件可以与形成浮质的基质间接接触。例如,在加热元件和形成浮质的基质之间可以设置传导层。传导层可以是金属箔层,所述金属箔层将热量从加热元件传导到形成浮质的基质,但防止加热元件的运动对形成浮质的基质造成损坏。传导层还可以扩散热接触面积或接触力,以不损坏形成浮质的基质。

有利地,加热元件通过电力进行加热。然而,能够使用其它加热方案来加热所述加热元件,例如,能够通过来自另一个热源的热传导或者通过加热元件的磁感应加热来加热所述加热元件。

只要形成浮质的基质的内腔能够接收加热元件和定位机构的任何必要部件,则所述内腔能够具有任意尺寸并且呈任意形状。优选地,装置构造成接收基本为管状的形成浮质的基质。优选地,管状的形成浮质的基质限定孔,所述孔延伸贯穿其长度的至少一部分,并且定位机构构造成使加热元件沿着形成浮质的基质的长度的这一部分运动到不同的位置。

对电加热的发烟装置而言,期望的是尽可能地模拟传统末端点燃(lit-end)的可燃香烟。通过使加热元件在装置内纵向运动(即,沿着装置的长度)以加热形成浮质的基质的不同部分,能够在不影响装置直径的前提下实现很多次单独的抽吸。因此,装置可以制成为高度模仿传统的末端点燃的可燃香烟的形状。使加热器沿着周向运动以加热形成浮质的基质的单独的部分是根据本发明的一个可选的选项。

优选地,加热元件基本是环状或者圆形的。当加热元件构造成沿着管状的形成浮质的基质的长度运动时,这尤为有利。环状或者圆形加热元件能够有效加热形成浮质的基质的对应的环状或者圆形部分。

优选地,加热元件具有弹性,所以加热元件在弯曲、压缩或者拉伸之后恢复到其原始形状。优选地,接合机构附接到加热元件的至少一个端部。接合机构构造成使加热元件的至少一个端部运动,以使加热元件径向扩张或者收缩。接合机构可以包括径向臂,所述径向臂附接到加热元件的端部并且构造成围绕纵向轴线枢转。以这种方式,径向臂运动,以便使加热元件扩张或者收缩。

根据本发明的另一个方面,提供一种浮质生成装置,所述浮质生成装置包括:壳体,所述壳体构造成接收形成浮质的基质;加热元件,所述加热元件构造成加热形成浮质的基质的一部分;和定位机构,所述定位机构构造成使加热元件从接近形成浮质的基质的第一部分的第一位置运动到远离形成浮质的基质的第二位置、然后运动到接近形成浮质的基质的第二部分的第三位置。

在定位机构操作期间,形成浮质的基质可以相对于壳体运动或者可以相对于壳体保持静止。

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