[发明专利]带被膜的基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201280052656.7 申请日: 2012-10-04
公开(公告)号: CN103889596A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 伊藤敦史;竹田洋介 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: B05D7/24 分类号: B05D7/24;B05D3/10;C09D183/04;C09D201/10
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 胡烨
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 带被膜 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种带被膜的基板的制造方法,它是制造在基板上具有被膜的带被膜的基板的方法,其特征在于,包括:

制备包含具有至少一种能水解的官能团的硅烷化合物、实质上不含水解反应催化剂的被膜形成用组合物的工序;

在基板上涂布所述被膜形成用组合物而形成涂膜的工序;

将所述涂膜干燥而制成前体膜的工序;以及

利用包含水解反应催化剂作为主成分的处理剂处理所述前体膜的表面,制成被膜的工序。

2.如权利要求1所述的带被膜的基板的制造方法,其特征在于,所述水解反应催化剂是酸或碱。

3.如权利要求1或2所述的带被膜的基板的制造方法,其特征在于,所述水解反应催化剂是酸。

4.如权利要求2或3所述的带被膜的基板的制造方法,其特征在于,所述酸是选自盐酸、硝酸、硫酸、对甲苯磺酸及甲磺酸的1种以上的酸。

5.如权利要求1~4中任一项所述的带被膜的基板的制造方法,其特征在于,所述具有能水解的官能团的硅烷化合物是具有选自全氟烷基、全氟聚醚基及聚二甲基硅氧烷链的结构的硅烷化合物。

6.如权利要求1~5中任一项所述的带被膜的基板的制造方法,其特征在于,所述能水解的官能团选自碳原子数1~10的烷氧基、异氰酸酯基及氯原子。

7.如权利要求1~6中任一项所述的带被膜的基板的制造方法,其特征在于,作为所述具有能水解的官能团的硅烷化合物,包括能水解的官能团是氯原子或异氰酸酯基的硅烷化合物、和能水解的官能团是烷氧基的硅烷化合物。

8.如权利要求1~7中任一项所述的带被膜的基板的制造方法,其特征在于,所述处理剂实质上不含硅烷化合物。

9.如权利要求1~8中任一项所述的带被膜的基板的制造方法,其特征在于,所述前体膜表面的处理通过一边使含浸、保持有所述处理剂的保液部件加压接触所述前体膜表面一边移动来进行。

10.如权利要求9所述的带被膜的基板的制造方法,其特征在于,构成所述保液部件的原材料选自海绵、无纺布、织布及纸。

11.如权利要求1~10中任一项所述的带被膜的基板的制造方法,其特征在于,在所述对前体膜的表面进行处理的工序之前,还包括将所述前体膜在0~60℃、50~100RH%下加湿10~180分钟的工序。

12.如权利要求1~11中任一项所述的带被膜的基板的制造方法,其特征在于,所述基板的构成材料是玻璃或树脂。

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