[发明专利]带被膜的基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及在基板上具有被膜的带被膜的基板的制造方法。

背景技术

以往，基于各种目的，广泛使用在玻璃或树脂等基板上形成有被膜的带被膜的基板。作为形成被膜的方法，已知通过条件温和的溶胶凝胶法，利用具有水解性基团的硅烷化合物的水解反应来形成被膜的方法。根据该方法，通常使用包含具有水解性基团的硅烷化合物和酸、碱等催化剂的被膜形成用组合物(例如参照专利文献1)，但是该被膜形成用组合物存在长期贮藏时水解慢慢进行，从而硅烷化合物发生高分子化等贮藏稳定性方面的问题。

为了解决这样的贮藏稳定性的问题，例如专利文献2中，采用通过使被膜形成用组合物不含催化剂，将该组合物涂布在基板上后，置于酸或碱气氛中，从而使水解进行的方法。但是，专利文献2的方法中，为了形成酸或碱气氛而在需要特殊的装置方面及安全性的确保方面存在问题。此外，该方法中，在被膜形成用组合物被涂布在基板上的状态下，基板整体暴露在酸或碱气氛中，所以有时上述涂布面以外的基板表面劣化、外观变差。

此外，根据硅烷化合物的种类，例如含氟有机硅化合物等中，作为将包含该硅烷化合物和酸、碱等催化剂的被膜形成用组合物涂布在基板上后的水解条件，还需要长时间的加湿，在生产效率方面需要改善(例如参照专利文献3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开2001-207162号公报

专利文献2:日本专利特开2001-205187号公报

专利文献3:国际公开第2011/016458号文本

发明内容

发明所要解决的技术问题

本发明的目的在于提供一种在制造具有被膜的带被膜的基板的方法中，在确保使用的被膜形成用组合物的贮藏稳定性的同时，能够实现简便、高生产效率、及基板无劣化、外观良好、具有高耐久性的带被膜的基板的制造的方法。

解决技术问题所采用的技术方案

本发明提供具有下述[1]～[12]的构成的带被膜的基板的制造方法。

[1]一种带被膜的基板的制造方法，它是制造在基板上具有被膜的带被膜的基板的方法，其包括：制备包含具有至少一种能水解的官能团的硅烷化合物、实质上不含水解反应催化剂的被膜形成用组合物的工序；在基板上涂布所述被膜形成用组合物而形成涂膜的工序；将所述涂膜干燥而制成前体膜的工序；以及利用包含水解反应催化剂作为主成分的处理剂处理所述前体膜的表面，制成被膜的工序。

[2]如[1]所述的带被膜的基板的制造方法，其中，所述水解反应催化剂是酸或碱。

[3]如[1]或[2]所述的带被膜的基板的制造方法，其中，所述水解反应催化剂是酸。

[4]如[2]或[3]所述的带被膜的基板的制造方法，其中，所述酸是选自盐酸、硝酸、硫酸、对甲苯磺酸及甲磺酸的1种以上的酸。

[5]如[1]～[4]中任一项所述的带被膜的基板的制造方法，其中，所述具有能水解的官能团的硅烷化合物是具有选自全氟烷基、全氟聚醚基及聚二甲基硅氧烷链的结构的硅烷化合物。

[6]如[1]～[5]中任一项所述的带被膜的基板的制造方法，其中，所述能水解的官能团选自碳原子数1～10的烷氧基、异氰酸酯基及氯原子。

[7]如[1]～[6]中任一项所述的带被膜的基板的制造方法，其中，作为所述具有能水解的官能团的硅烷化合物，包括能水解的官能团是氯原子或异氰酸酯基的硅烷化合物、和能水解的官能团是烷氧基的硅烷化合物。

[8]如[1]～[7]中任一项所述的带被膜的基板的制造方法，其中，所述处理剂实质上不含硅烷化合物。

[9]如[1]～[8]中任一项所述的带被膜的基板的制造方法，其中，所述前体膜表面的处理通过一边使含浸、保持有所述处理剂的保液部件加压接触所述前体膜表面一边移动来进行。

[10]如[9]所述的带被膜的基板的制造方法，其中，构成所述保液部件的原材料选自海绵、无纺布、织布及纸。

[11]如[1]～[10]中任一项所述的带被膜的基板的制造方法，其中，在所述对前体膜的表面进行处理的工序之前，还包括将所述前体膜在0～60℃、50～100RH％下加湿10～180分钟的工序。

[12]如[1]～[11]中任一项所述的带被膜的基板的制造方法，其中，所述基板的构成材料是玻璃或树脂。

发明的效果