[发明专利]光学玻璃、压制成形用玻璃材料、以及光学元件及其制造方法有效
申请号: | 201280054640.X | 申请日: | 2012-11-01 |
公开(公告)号: | CN103930383A | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 根岸智明 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | C03C3/064 | 分类号: | C03C3/064;C03C3/155;G02B1/00 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 袁波;刘继富 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学玻璃 压制 成形 玻璃 材料 以及 光学 元件 及其 制造 方法 | ||
1.一种光学玻璃,为氧化物玻璃,以阳离子%表示,含有:
合计35~55%的Si4+及B3+、
合计30~55%的La3+、Gd3+及Y3+(其中,Gd3+的含量为5~20%)、
合计7~20%的Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+、
2~8%的Zr4+、
0~10%的Zn2+,
Zn2+的含量相对于Gd3+的含量的阳离子比(Zn2+/Gd3+)是0~0.80的范围,
Gd3+的含量相对于Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+的合计含量的阳离子比(Gd3+/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))是0.65~2.00的范围,
Ta5+的含量相对于Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+的合计含量的阳离子比(Ta5+/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))是0~0.30的范围,
Ti4+的含量相对于Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+的合计含量的阳离子比(Ti4+/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))是0.30~0.90的范围,
该光学玻璃的折射率nd是1.890~1.950的范围,
阿贝数νd相对于折射率nd满足νd≥(2.334-nd)/0.012的关系,且为39.0以下。
2.根据权利要求1所述的光学玻璃,其中,Ta5+的含量为0~4阳离子%。
3.根据权利要求1或2所述的光学玻璃,其中,Si4+的含量为6~15阳离子%,B3+的含量为25~45阳离子%。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的光学玻璃,其中,La3+的含量为15~30阳离子%。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的光学玻璃,其中,Ti4+的含量为1~10阳离子%。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的光学玻璃,其中,液相线温度为1300℃以下。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的光学玻璃,其中,玻璃转化温度Tg为650℃以上。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的光学玻璃,其中,比重是4.50~5.50的范围。
9.一种压制成形用玻璃材料,由权利要求1~8中任一项所述的光学玻璃构成。
10.一种光学元件,由权利要求1~8中任一项所述的光学玻璃构成。
11.一种光学元件的制造方法,包含:
对权利要求9所述的压制成形用玻璃原料进行加热,使用压制成形模具进行压制成形,制作玻璃成形体的工序;
对制作的玻璃成形体进行加工,得到光学元件的工序。
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