[发明专利]光学玻璃、压制成形用玻璃材料、以及光学元件及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学玻璃、由上述光学玻璃构成的压制成形用玻璃材料及光学元件、以及使用上述压制成形用玻璃材料的光学元件的制造方法。

背景技术

近年来，伴随摄像装置的高性能化、紧凑化，对高折射率玻璃制透镜的需求日渐高涨。作为用于这种透镜的玻璃材料，已知例如专利文献1中公开的那种高折射率低色散玻璃。由高折射率低色散玻璃构成的透镜通过与由高折射率高色散玻璃构成的透镜组合，可以校正色像差并实现光学系统的紧凑化，作为构成摄像光学系统或投影机等的投射光学系统的光学元件占据非常重要的位置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-269584号公报

发明内容

发明所要解决的课题

在现有的高折射率低色散玻璃中，使用Ta₂O₅作为主要成分(例如参照专利文献1)。这是因为Ta₂O₅在高折射率低色散玻璃中有助于耐失透性或制造稳定性提高等。但是，近年来，稀有金属的价格高涨，特别是钽(Ta)显著地变得昂贵，而且对市场的供应量减少。因此，在玻璃制造领域，寻求降低作为玻璃原料的钽的使用量。

因此，本发明的目的在于提供一种高品质的高折射率低色散玻璃，其抑制Ta₂O₅的使用量，并且具有优异的制造适应性。

用于解决课题的技术方案

本发明者为实现上述目的而反复进行了专心研究，结果发现通过如下光学玻璃实现上述目的，完成本发明，

该光学玻璃为氧化物玻璃，以阳离子％表示，含有：

合计35～55％的Si⁴⁺及B³⁺、

合计30～55％的La³⁺、Gd³⁺及Y³⁺(其中，Gd³⁺的含量为5～20％)、

合计7～20％的Ti⁴⁺、Nb⁵⁺、Ta⁵⁺及W⁶⁺、

2～8％的Zr⁴⁺、

0～10％的Zn²⁺，

Zn²⁺的含量相对于Gd³⁺的含量的阳离子比(Zn²⁺/Gd³⁺)是0～0.80的范围，

Gd³⁺的含量相对于Ti⁴⁺、Nb⁵⁺、Ta⁵⁺及W⁶⁺的合计含量的阳离子比(Gd³⁺/(Ti⁴⁺+Nb⁵⁺+Ta⁵⁺+W⁶⁺))是0.65～2.00的范围，

Ta⁵⁺的含量相对于Ti⁴⁺、Nb⁵⁺、Ta⁵⁺及W⁶⁺的合计含量的阳离子比(Ta⁵⁺/(Ti⁴⁺+Nb⁵⁺+Ta⁵⁺+W⁶⁺))是0～0.30的范围，

Ti⁴⁺的含量相对于Ti⁴⁺、Nb⁵⁺、Ta⁵⁺及W⁶⁺的合计含量的阳离子比(Ti⁴⁺/(Ti⁴⁺+Nb⁵⁺+Ta⁵⁺+W⁶⁺))是0.30～0.90的范围，

该光学玻璃的折射率nd是1.890～1.950的范围，

阿贝数νd相对于折射率nd满足νd≥(2.334-nd)/0.012的关系，并且为39.0以下。

进而，根据本发明的一个方式，还提供：

一种压制成形用玻璃材料，其由上述的光学玻璃构成；

一种光学元件，其由上述的光学玻璃构成；及、

一种光学元件的制造方法，其包含：

加热上述的压制成形用玻璃材料，使用压制成形模具进行压制成形，制作玻璃成形体的工序；