[发明专利]用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件

权利要求书

1.用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件，该支持件包括：一个坩埚(35；135)和被引入到所述坩埚(35；135)内的一种光学涂层液体合成物(34；134)；其中所述支持件(30；130)进一步包括一个形成了封套的框架(36，37；136，137)，所述坩埚(35；135)和所述光学涂层液体合成物(34；134)被包裹在该封套内；所述框架(36，37；136，137)具有一个内部空间(45，51；145，151)并且被配置成在所述内部空间(45，51；145，151)具有的内部压力(P)低于一个预先确定的压力阈值(Pth)时气密地密封所述坩埚(35；135)和所述光学涂层液体合成物(34；134)，并且被配置成在所述内部空间(45，51；145，151)的所述内部压力(P)大于所述预先确定的压力阈值(Pth)时使所述光学涂层液体合成物(34；134)的蒸气泄出；借助于该框架，所述支持件(30；130)构成光学涂层液体合成物(34；134)的一个匣。

2.根据权利要求1所述的支持件，其中，该框架包括一个断开构件(37；137)，该断开构件被配置成在所述内部空间(45，51；145，151)的所述内部压力(P)大于所述预先确定的压力阈值(Pth)时部分地断开。

3.根据权利要求1和2中任一项所述的支持件，其中，该框架包括一个传导构件(36；136)，该传导构件被配置成用于在蒸发处理之前和蒸发处理过程中将热量传递给所述光学涂层液体合成物(34；134)。

4.根据权利要求2和3所述的支持件，其中，所述断开构件(37；137)具有一个第一厚度，并且所述传导构件(36；136)具有一个第二厚度，并且所述第一厚度小于所述第二厚度。

5.根据权利要求2和4中任一项所述的支持件，其中，所述断开构件(37)包括被配置成用于弱化所述断开构件(37)的至少一个肋(61)。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的支持件，其中，该框架包括独特且联接在一起的一个断开构件(37；137)和一个传导构件(36；136)。

7.根据权利要求6所述的支持件，其中，所述断开构件(37；137)和所述传导构件(36；136)是金属的。

8.根据权利要求6和7中任一项所述的支持件，其中，所述传导构件(36；136)具有的周界(47；147)比所述断开构件(37；137)的周界(54；154)更长，从而使得所述传导构件(36；136)以其周界(47；147)压皱连接在所述断开构件(37；137)的所述周界(54；154)上。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的支持件，其中，该支持件进一步包括一个挡板构件(38；138)，该挡板构件安装在所述框架(36，37；136，137)上并且包括至少一个开口(60；160)。

10.根据权利要求9所述的支持件，其中，所述挡板构件(38；138)包括一个其中制作有多个有规律地间隔开的圆形开口(60；160)的部分(55；155)。

11.根据权利要求9和10中任一项所述的支持件，其中，所述挡板构件(38；138)包括面向所述框架(36，37；136，137)并且被安排在距离所述框架(36，37；136，137)一个预先确定的距离(d)处的一个部分(55；155)。

12.根据权利要求9至11中任一项所述的支持件，其中，所述挡板构件(38；138)具有的周界(62；162)比所述框架(36，37；136，137)的周界更长，从而使得所述挡板构件(38；138)以其周界(62；162)压皱联接在所述框架(36，37；136，137)的所述周界上。

13.根据权利要求9至12中任一项所述的支持件，其中，所述挡板构件(38；138)包括一个顶板部分(55；155)、一个连接到所述顶板部分(55；155)上的侧向部分(56；156)、以及至少部分地制作在所述侧向部分(56；156)中的至少一个凹陷(59；159)。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的支持件，其中，所述坩埚(35)包括一个吸收有所述光学涂层液体合成物(34)的多孔构件(40)。