[发明专利]用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件

说明书

技术领域

本发明涉及用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件。

背景技术

众所周知的是镜片(并且具体地眼镜片)包括具有多个适应于佩戴者的几何特征的一个眼镜基片。

该眼镜基片需要添加多个涂层，例如，增加镜片的耐磨性的耐磨涂层、减少光反射的防反射涂层以及应用在防反射涂层上的防污涂层。

这样的涂层是由液体合成物制成的，这些液体合成物必须被沉积在眼镜基片上。

经常用于将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的方法是蒸发处理。这可以在真空下实施。

在蒸发处理过程中，一个包括由多孔构件形成的、吸收有预先确定体积的光学涂层液体合成物的坩埚(或药丸)的支持件被引入到一个蒸发处理机器内并且被一个蒸发装置加热直至液体蒸发并因此沉积在光学物品上。

在一个变体中，该坩埚并非形成为一种吸收有光学涂层液体合成物的多孔构件，而是形成为一个光学涂层液体合成物被注入其中的容器；并且该容器是被引入到该蒸发处理机器内并且被该蒸发装置加热直到该液体蒸发并因此沉积在该光学物品上。

两种类型的坩埚都需要蒸发处理机器的使用者抓握坩埚。因此，需要使用者戴上手套，因为光学涂层液体合成物通常包括有害溶剂。

光学涂层液体合成物的溶剂通常还是挥发性的。因此，使用者必须处于通风环境下。

本发明是针对一种用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件，该支持件操控安全、简单、紧凑且经济。

发明内容

本发明相应地提供了一种用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件，该支持件包括：一个坩埚和被引入到所述坩埚内的一种光学涂层液体合成物；其中所述支持件进一步包括一个形成了封套的框架，所述坩埚和所述光学涂层液体合成物被包裹在该封套内；所述框架具有一个内部空间并且被配置成在所述内部空间具有的内部压力低于一个预先确定的压力阈值时气密地密封所述坩埚和所述光学涂层液体合成物，并且被配置成在所述内部空间的所述内部压力大于所述预先确定的压力阈值时使所述光学涂层液体合成物的蒸气泄出；借助于该框架，所述支持件构成光学涂层液体合成物的一个匣。

换言之，根据本发明的支持件是用于光学涂层液体合成物的封装单元，该单元由一个可轻易运输和存储的匣形成，易于搬运且比上述已知的坩埚更安全。

此匣可以轻易地插入任何处理过程而没有其所包括的光学涂层液体合成物变质的风险。

的确，在所述支持件中包括的光学涂层液体合成物沉积之前需要预处理步骤的已知过程中，坩埚通常是单独插入处理机器的处理室内的，该机器包括在等待光学涂层液体合成物的蒸发步骤时使坩埚隔离(为了保护它)的一个系统。

得益于本发明，因为消除了这种插入处理机器内的隔离系统并且相应地消除了这种隔离过程，所以可以简化处理过程和处理机器两者。

根据由于非常简单、方便且经济地实施根据本发明的支持件而优选的特征：

-该框架包括一个断开构件，该断开构件被配置成在所述内部空间的所述内部压力大于所述预先确定的压力阈值时部分地断开；

-该框架包括一个传导构件，该传导构件被配置成用于在蒸发处理之前和蒸发处理过程中将热量传递给至所述光学涂层液体合成物；

-所述断开构件具有一个第一厚度，并且所述传导构件具有一个第二厚度，并且所述第一厚度小于所述第二厚度；

-所述断开构件包括被配置成用于弱化所述断开构件的至少一个肋；

-该框架包括独特且联接在一起的一个断开构件和一个传导构件；

-所述断开构件和所述传导构件是金属的；

-所述传导构件具有的周界比所述断开构件的周界更长，从而使得所述传导构件以其周界压皱联接在所述断开构件的所述周界上；

-该支持件进一步包括一个挡板构件，该挡板构件安装在所述框架上并且包括至少一个开口；

-所述挡板构件包括一个其中制作有多个有规律地间隔开的圆形开口的部分；

-所述挡板构件包括面向所述框架并且安排在距离所述框架一个预先确定的距离处的一个部分；

-所述挡板构件具有的周界比所述框架的周界更长，从而使得所述挡板构件以其周界压皱联接在所述框架的所述周界上；

-所述挡板构件包括一个顶部部分、一个连接到所述顶板部分上的侧向部分、以及至少部分地制作在所述侧向部分中的至少一个凹陷；

-所述坩埚包括一个吸收有所述光学涂层液体合成物的多孔构件；和/或

-所述坩埚包括一个其中倾注有所述光学涂层液体合成物的容器。