[发明专利]带电粒子线装置有效

专利信息
申请号: 201280057813.3 申请日: 2012-11-12
公开(公告)号: CN103999186A 公开(公告)日: 2014-08-20
发明(设计)人: 海老根裕太;富田真一;伊东祐博;青岛利裕 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术;东陶机器株式会社
主分类号: H01J37/252 分类号: H01J37/252;H01J37/244;H01J37/28;H01J37/29
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴秋明
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 带电 粒子 线装
【权利要求书】:

1.一种带电粒子线装置,具备X射线检测器,所述带电粒子线装置的特征在于,

在与所述X射线检测器的X射线检测面同轴上与所述X射线检测器一体或独立地配置第1反射电子检测器,并且具有同时或个别地由所述X射线检测器检测X射线信号、由所述第1反射电子检测器检测反射电子信号的功能。

2.一种带电粒子线装置,具备X射线检测器,所述带电粒子线装置的特征在于,

在与所述X射线检测器的X射线检测面非同轴的位置与所述X射线检测器一体或独立地配置第1反射电子检测器,并且具有同时或个别地由所述X射线检测器检测X射线信号、由所述第1反射电子检测器检测反射电子信号的功能。

3.一种带电粒子线装置,具备X射线检测器,所述带电粒子线装置的特征在于,

所述带电粒子线装置具有使配置于所述X射线检测器的周围的第1反射电子检测器插入到所述X射线检测器的X射线检测面的前面且X射线光轴上、或使配置在所述X射线检测器的X射线检测面的前面且X射线光轴上的第1反射电子检测器退避到所述X射线检测器的周围的机构,并且具有同时或个别地由所述X射线检测器检测X射线信号、由所述第1反射电子检测器检测反射电子信号的功能。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的带电粒子线装置,其特征在于,

所述带电粒子线装置还具备二次电子检测器以及配置在一次带电粒子线光轴上的第2反射电子检测器,

所述带电粒子线装置具有个别或同时取得并在画面上个别或同时显示由配置在所述X射线检测器的X射线检测面前段的所述第1反射电子检测器得到的第1反射电子像、由配置在所述一次带电粒子线光轴上的所述第2反射电子检测器得到的第2反射电子像、以及由所述二次电子检测器得到的二次电子像的功能。

5.根据权利要求1~3中任一项所述的带电粒子线装置,其特征在于,

所述带电粒子线装置具有使用由所述第1反射电子检测器得到的所述第1反射电子像来解析所述第1反射电子像中的每个像素的反射电子信号量,至少评价或判别所述带电粒子线装置的观察范围的X射线检测效率的功能。

6.根据权利要求4所述的带电粒子线装置,其特征在于,

所述带电粒子线装置具有使用所述第2反射电子检测器的所述第2反射电子像以及所述第1反射电子检测器的所述第1反射电子像来实施图像处理解析,至少评价或判别所述带电粒子线装置的观察范围的X射线检测效率的功能。

7.根据权利要求5或6所述的带电粒子线装置,其特征在于,

所述带电粒子线装置具有将所述观察范围的X射线检测效率或其判别结果重叠在所述第2反射电子像或所述二次电子像或这两者来显示、或者对话显示所述观察范围能否进行X射线元素分析的功能。

8.根据权利要求2所述的带电粒子线装置,其特征在于,

所谓所述非同轴的位置,是指通过第1反射电子检测器的检测面的中心和样本的分析点的反射电子的光轴占据包围通过X射线检测器的X射线检测面的中心和样本的分析点的X射线光轴的区域的一部分的位置。

9.根据权利要求1所述的带电粒子线装置,其特征在于,

所述第1反射电子检测器在与所述X射线检测面同轴上具有X射线通过的孔。

10.根据权利要求3所述的带电粒子线装置,其特征在于,

所述第1反射电子检测器检测与所述X射线检测面同轴上的反射电子。

11.一种带电粒子线装置,具备X射线检测器,所述带电粒子线装置的特征在于,

在相对于被检测对象与配置所述X射线检测器的X射线检测面的方向同方向并且能检测来自所述被检测对象的直线前进的反射电子的位置配置第1反射电子检测器,并且具有同时或个别地由所述X射线检测器检测X射线信号、由所述第1反射电子检测器检测反射电子信号的功能。

12.根据权利要求1、2或11所述的带电粒子线装置,其特征在于,

所述第1反射电子检测器配置在所述X射线检测器的前端部。

13.根据权利要求1、2或11所述的带电粒子线装置,其特征在于,

通过第1反射电子检测器的检测面的中心和样本的分析点的反射电子的光轴、与通过X射线检测器的X射线检测面的中心和样本的分析点的X射线光轴所成的角为0°以上且20°以下。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立高新技术;东陶机器株式会社,未经株式会社日立高新技术;东陶机器株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280057813.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top