[发明专利]带电粒子线装置

说明书

技术领域

本发明涉及具备X射线检测器的带电粒子线装置。

背景技术

在使用以扫描电子显微镜为代表的带电粒子线装置来进行X射线元素分析时，一边用二次电子检测器以及配置在物镜与样本面间的BSE(Back Scattered Electron，背散射电子)检测器取得图像一边任意决定分析位置，用位于与其不同的角度位置的X射线检测器来检测特征X射线，进行分析。

作为获得样本上的最佳的X射线元素分析位置的方法，在特开2009-181922(专利文献1)公开了取得样本的三维形状、配合样本的形状来控制样本微动装置的技术。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：JP特开2009-181922号公报

发明内容

发明要解决的课题

在使用扫描电子显微镜和X射线检测器的样本表面分析中，进行通常观察的样本的表面并非完全的平面，存在众多的凹凸。为此，在X射线检测器与样本面上的分析位置之间存在因样本表面形状以及表面粗糙度而出现的凹凸部等障碍物的情况下，从分析位置产生的特征X射线会被凹凸部遮蔽，用X射线检测器得到的光谱强度降低。另外，在检测光谱的能量有较大的差(例如Al-K和Cu-K)的情况下，低能量侧的光谱强度的降低比例变大，峰值强度比被检测为不同。

因此，在分析面有凹凸部时，从X射线检测器来看成为凹凸部的阴影的场所不能进行正确的分析。另外，在进行通常X射线元素分析的情况下，除了要看用二次电子检测器得到的二次电子像以外，还要一边看得到组成对比度的反射电子像一边决定分析范围，难以从通过配置在样本面正上方的反射电子检测器(后面为了方便而表述为top-BSE检测器)而得到的反射电子像(后面为了方便而表述为top-BSE像)来判别光谱强度降低的场所。当前在用这种方法进行X射线元素分析的情况下，分析者通过从包含形状信息的由二次电子检测器得到的二次电子像来推测样本表面的凹凸形状，由此来决定分析范围，根据经验评价所得到的分析结果。在存在判断为由于分析范围的凹凸而不能检测到X射线、或者X射线的强度降低给分析数据带来影响的部分的情况下，需要对样本与X射线检测器的位置关系进行再调整，重新取得数据(所谓的返工)。另外，在不能进行样本与X射线检测器的位置关系的再调整的情况下，只能根据所得到的分析数据考虑样本面的凹凸状态来考察分析结果，有时不能进行正确的数据解释。

本发明的目的在于提供一种带电粒子线装置，能够在进行X射线元素分析的预备阶段评价、判别适于X射线分析的样本上的位置，分析者能够无返工、短时间地进行确保了高可靠性的分析。

用于解决课题的手段

作为用于达成上述目的的1个实施方式，带电粒子线装置具备X射线检测器，其特征在于，所述带电粒子线装置在与所述X射线检测器的X射线检测面同轴上与所述X射线检测器一体或独立地配置第1反射电子检测器，具有同时或个别地由所述X射线检测器检测X射线信号、由所述第1反射电子检测器检测反射电子信号的功能。

另外，带电粒子线装置具备X射线检测器，其特征在于，在与所述X射线检测器的X射线检测面非同轴的位置与所述X射线检测器一体或独立配置第1反射电子检测器，具有同时或个别地由所述X射线检测器检测X射线信号、由所述第1反射电子检测器检测反射电子信号的功能。

另外，带电粒子线装置具备X射线检测器，其特征在于，具有使配置在所述X射线检测器的周围的第1反射电子检测器插入到所述X射线检测器的X射线检测面的前面且X射线光轴上、或者使配置在所述X射线检测器的X射线检测面的前面且X射线光轴上的第1反射电子检测器退避到所述X射线检测器的周围的机构，具有同时或个别地由所述X射线检测器检测X射线信号、由所述第1反射电子检测器检测反射电子信号的功能。

另外，所谓在与X射线检测器的X射线检测面同轴上配置第1反射电子检测器，是指通过X射线检测器的X射线检测面的中心和样本的分析点的X射线光轴、与通过第1反射电子检测器的检测面的中心和样本的分析点的反射电子的光轴重叠地配置第1反射电子检测器。

另外，所谓在与X射线检测器的X射线检测面非同轴的位置配置第1反射电子检测器，是指通过X射线检测器的X射线检测面的中心和样本的分析点的X射线光轴、与通过第1反射电子检测器的检测面的中心和样本的分析点的反射电子的光轴不重叠、优选位于所述反射电子的光轴占据包围所述X射线光轴的区域的一部分的位置地配置第1反射电子检测器。

发明效果