[发明专利]光学体、窗材料、隔断构件、日射遮蔽装置及建筑物有效

专利信息
申请号: 201280058678.4 申请日: 2012-08-24
公开(公告)号: CN103988101B 公开(公告)日: 2016-10-12
发明(设计)人: 长浜勉;涉谷笃史 申请(专利权)人: 迪睿合电子材料有限公司
主分类号: G02B5/26 分类号: G02B5/26;B32B7/02;E06B9/24;G02B5/08;G02B5/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 何欣亭;王忠忠
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 材料 隔断 构件 日射 遮蔽 装置 建筑物
【权利要求书】:

1.一种光学体,具备:

在表面设有凹凸面的光学层;以及

设在所述凹凸面上的波长选择反射层,

所述波长选择反射层选择性地定向反射特定波长带的光,而透射所述特定波长带以外的光,

所述凹凸面具备沿所述光学层的表面内的第1方向延伸的多个第1构造体,和沿所述光学层的表面内的第2方向延伸并隔开而设置的多个第2构造体,

所述第1方向与所述第2方向处于交叉的关系。

2.根据权利要求1所述的光学体,

所述光学层具有拥有短边方向及长边方向的带状或矩形状,

所述第1方向为所述光学层的短边方向,所述第2方向为所述光学层的长边方向。

3.根据权利要求1所述的光学体,

所述光学层具有拥有对置的2组边的矩形状,

所述第1方向为所述2组边之中的一组边的延伸方向,所述第2方向为所述2组边之中的另一组边的延伸方向。

4.根据权利要求1所述的光学体,在将以所述光学层的表面为基准的第1构造体、第2构造体的高度分别设为H1、H2的情况下,所述第1构造体的高度H1及所述第2构造体的高度H2满足H2>H1的关系。

5.根据权利要求1所述的光学体,所述第2构造体的倾斜角为65°以下的范围内。

6.根据权利要求1所述的光学体,所述第2构造体的间距为200μm以上5mm以下的范围内。

7.根据权利要求1所述的光学体,所述第2构造体在顶部具有R形状。

8.根据权利要求1所述的光学体,所述第1构造体与所述第2构造体的倾斜面的角度之差为±15°以下的范围内。

9.根据权利要求1所述的光学体,还具备以掩埋所述凹凸面的方式设在所述波长选择反射层上的光学层。

10.根据权利要求1所述的光学体,所述第1方向与所述第2方向的交叉为正交交叉或大致正交交叉。

11.根据权利要求1所述的光学体,所述第1方向与所述第2方向的交叉为倾斜交叉。

12.一种窗材料,具备权利要求1~11的任一个所述的光学体。

13.根据权利要求12所述的窗材料,以所述第1构造体的棱线方向与建筑物的高度方向大致正交的方式具备所述光学体。

14.一种隔断构件,在采光部具备权利要求1~11的任一个所述的光学体。

15.一种日射遮蔽装置,具备遮蔽日射的一个或多个日射遮蔽部件,

所述日射遮蔽部件具备权利要求1~11的任一个所述的光学体。

16.一种建筑物,具备权利要求1~11的任一个所述的光学体。

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