[发明专利]光学体、窗材料、隔断构件、日射遮蔽装置及建筑物有效
申请号: | 201280058678.4 | 申请日: | 2012-08-24 |
公开(公告)号: | CN103988101B | 公开(公告)日: | 2016-10-12 |
发明(设计)人: | 长浜勉;涉谷笃史 | 申请(专利权)人: | 迪睿合电子材料有限公司 |
主分类号: | G02B5/26 | 分类号: | G02B5/26;B32B7/02;E06B9/24;G02B5/08;G02B5/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 何欣亭;王忠忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 材料 隔断 构件 日射 遮蔽 装置 建筑物 | ||
技术领域
本技术涉及光学体、窗材料、隔断构件、日射遮蔽装置及建筑物。详细而言,涉及将入射光定向反射的光学体。
背景技术
出于降低空调负载的观点,市售有用于遮蔽日射的窗用膜。作为该遮蔽日射的技术,市售有吸收日射的膜和反射日射的膜,但关于前者的膜,存在吸收了日射的膜变热,从而被称作周边区域的窗的周边部变热的问题。关于后者,作为反射层已公开了很多使用光学多层膜、含金属膜、透明导电性膜等的技术(例如参照专利文献1)。
然而,由于这样的反射层设于平面上的窗玻璃,因而只能使入射的太阳光正反射。因此,从上空照射而被正反射的光,到达屋外的别的建筑物或地面,被吸收而变成热,使周围的气温上升。由此,在窗整体贴有这样的反射层的楼宇的周边,引起局部的温度上升,产生在都市部热岛越来越严重,或者仅反射光的照射面草坪生长等的问题。
因此,为了解决由这样的正反射造成的热岛越来越严重等的问题,提案有各种将日射定向反射至正反射以外的方向的膜(参照专利文献2)。作为其提案之一,存在由一维排列的多个柱状体构成、在凹凸面上形成反射层,以树脂材料包埋形成该反射层的凹凸面的膜。
现有技术文献
专利文献
[专利文献1]国际公开第05/087680号册子
[专利文献2]日本特许第4513921号公报。
发明内容
发明要解决的课题
然而,当如上所述以树脂材料包埋凹凸面,则在该包埋工序中产生条纹状的膜厚不均匀,膜的视觉辨认性劣化。
因此,本技术的目的在于,提供能够抑制条纹状的膜厚不均匀的产生的光学体、窗材料、隔断构件、日射遮蔽装置及建筑物。
用于解决课题的方案
为了解决上述课题,本技术是一种光学体,具备:
在表面设置有凹凸面的光学层;以及
设置在凹凸面上的波长选择反射层,
波长选择反射层选择性地定向反射特定波长带的光,透射特定波长带以外的光,
凹凸面具备沿光学层的表面内的第1方向延伸的多个第1构造体,以及沿光学层的表面内的第2方向延伸并且隔开而设置的多个第2构造体,
第1方向与第2方向交叉。
本技术的光学体、窗材料、隔断构件、日射遮蔽装置及建筑物特征在于,具备本技术的光学体。
依据本技术,光学层的凹凸面具备沿光学层的表面内的第1方向延伸的多个第1构造体,以及沿光学层的表面内的第2方向延伸并且隔开而设置的多个第2构造体,处于第1方向与第2方向交叉的关系。由此,在包埋光学层的凹凸面时,能够由第2构造体来形成用于该包埋所使用的材料流动的路径。
发明的效果
如以上说明地,依据本技术,能够抑制条纹状的膜厚不均匀的产生。
附图说明
图1A是示出第1实施方式所涉及的光学膜的一构成例的截面图。图1B是示出将第1实施方式所涉及的光学膜粘合于附着物体的例的截面图。
图2是示出对光学膜入射的入射光与被光学膜反射的反射光的关系的立体图。
图3是示出第1实施方式所涉及的光学膜的第1光学层的凹凸面的一形状例的平面图。
图4A是示出第2方向上的第1光学层的凹凸面的一形状例的截面图。图4B是示出第1方向上的第1光学层的凹凸面的一形状例的截面图。
图5A是示出在第1光学层形成的第1构造体的一形状例的立体图。图5B是示出具备形成有图5A所示的第1构造体的第1光学层的光学膜的一构成例的截面图。
图6A是将图5B所示的光学膜的一部分放大而表示的放大截面图。图6B是将图5B所示的波长选择反射层放大而表示的放大截面图。
图7A、图7B是用于说明第1实施方式所涉及的光学膜的功能的一个例子的截面图。
图8A是用于说明第1实施方式所涉及的光学膜的功能的一个例子的截面图。图8B是用于说明第1实施方式所涉及的光学膜的功能的一个例子的平面图。
图9是示出第1实施方式所涉及的光学膜的整体形状的一个例子的立体图。
图10A、图10B是用于说明本技术的第1实施方式所涉及的光学膜的粘合方法的一个例子的简略线图。
图11A、图11B是用于说明取决于粘合方向的光学膜的反射功能的不同的简略线图。
图12是示出本技术的第1实施方式所涉及的光学膜的制造所使用的原盘的一构成例的立体图。
图13是示出原盘的成形面的一形状例的平面图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于迪睿合电子材料有限公司,未经迪睿合电子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280058678.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。