[发明专利]光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种有机绝缘膜用光致抗蚀剂组合物，其特征在于，含有：

(a)丙烯酸类共聚物10～30重量％，该丙烯酸类共聚物将i)不饱和羧酸或其酐、ii)含环氧基的不饱和化合物、以及iii)烯烃类不饱和化合物聚合而制造且重量平均分子量为5,000～7,000；

(b)在末端基含有异氰酸酯基(-NCO)的硅烷偶联剂0.1～2重量％；

(c)感光剂1～15重量％；以及，

(d)剩余量的溶剂；

上述丙烯酸类共聚物使用：i)不饱和羧酸或其酐15～30重量份；ii)含环氧基的不饱和化合物15～30重量份；以及，iii)烯烃类不饱和化合物40～70重量份，作为单体进行聚合而成；

上述烯烃类不饱和化合物是由苯乙烯60～80、丙烯酸-2-羟乙酯15～40、丙烯酸异冰片酯5～20的重量比混合而成；

上述(c)感光剂是1,2-醌二叠氮4-磺酸酯、1,2-醌二叠氮5-磺酸酯或1,2-醌二叠氮6-磺酸酯。

2.根据权利要求1所述的有机绝缘膜用光致抗蚀剂组合物，其特征在于，

上述i)不饱和羧酸是甲基丙烯酸。

3.根据权利要求1所述的有机绝缘膜用光致抗蚀剂组合物，其特征在于，

上述ii)含环氧基的不饱和化合物是甲基丙烯酸环氧丙酯。

4.根据权利要求1所述的有机绝缘膜用光致抗蚀剂组合物，其特征在于，

上述光致抗蚀剂组合物进一步含有0.01～10重量％的可塑剂、UV稳定剂、自由基捕获剂、抗氧化剂、增感剂、或表面活性剂。

5.一种基板的微细图案形成方法，包括利用光致抗蚀剂组合物在基板的氮化硅膜上形成半色调的工序，上述基板的微细图案形成方法的特征在于，

上述光致抗蚀剂组合物是权利要求1至4中任一项所述的有机绝缘膜用光致抗蚀剂组合物。

6.一种形成有微细图案的基板，其特征在于，

上述微细图案通过权利要求5所述的方法形成。

7.根据权利要求6所述的形成有微细图案的基板，其特征在于，

上述微细图案的线宽具有0.1～4μm。

8.一种电子器件，其特征在于，

包括权利要求6所记载的基板。