[发明专利]用于光伏器件的混合型接触件和光伏器件的形成方法无效

专利信息
申请号: 201280062486.0 申请日: 2012-10-16
公开(公告)号: CN104321882A 公开(公告)日: 2015-01-28
发明(设计)人: 赵志波;本雅明·布勒;李政昊;马库斯·格勒克勒;大卫·黄;斯科特·米尔斯;邵锐 申请(专利权)人: 第一太阳能有限公司;赵志波;本雅明·布勒;李政昊;马库斯·格勒克勒;大卫·黄;斯科特·米尔斯;邵锐
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/18;H01L31/048
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 尹淑梅
地址: 美国俄亥俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 器件 混合 接触 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种用于光伏器件的接触件,所述接触件包括:

光伏器件的透明导电氧化物堆叠件,其中,透明导电氧化物堆叠件的第一部分通过常压化学气相沉积形成,透明导电氧化物堆叠件的第二部分通过物理气相沉积形成。

2.如权利要求1所述的接触件,其中,透明导电氧化物堆叠件包括阻挡层、透明导电氧化物层和缓冲层。

3.如权利要求2所述的接触件,其中,阻挡层通过常压化学气相沉积形成,透明导电氧化物层和缓冲层通过物理气相沉积形成。

4.如权利要求1所述的接触件,其中,接触件是光伏器件的前接触件。

5.如权利要求2所述的接触件,其中,缓冲层包括SiO2

6.如权利要求2所述的接触件,其中,透明导电氧化物层是从由F-SnO2、Cd2SnO4、ITO、CIO和ZAO组成的组中选择的。

7.如权利要求2所述的接触件,其中,缓冲层是从由SnO2、ZnO、In2O3和ZnSnxOy组成的组中选择的。

8.如权利要求2所述的接触件,其中,缓冲层具有大约5nm至大约50nm的表面粗糙度均值。

9.如权利要求2所述的接触件,其中,阻挡层包括形成在具有大约2.0至大约2.4的折射率的第二材料上方的具有大约1.45至大约1.50的折射率的第一材料。

10.如权利要求9所述的接触件,其中,阻挡层的第一材料是从由SiO2、SiAlxOy和Al2O3组成的组中选择的。

11.如权利要求9所述的接触件,其中,阻挡层的第二材料是从由SiNx、SnO2、TiO2、Ta2O5和Nb2O5组成的组中选择的。

12.如权利要求1所述的接触件,所述接触件还包括通过物理气相沉积形成在透明导电氧化物堆叠件的第一部分上方的粘结层。

13.如权利要求12所述的接触件,其中,粘结层是从由SiO2和SiAlxOy组成的组中选择的。

14.如权利要求9所述的接触件,所述接触件还包括通过物理气相沉积形成在阻挡层上方的粘结层。

15.如权利要求14所述的接触件,其中,粘结层是从由SiO2和SiAlxOy组成的组中选择的。

16.如权利要求2所述的接触件,其中,阻挡层具有大约至大约的厚度。

17.如权利要求9所述的接触件,其中,阻挡层的第一材料具有大约至大约的厚度,阻挡层的第二材料具有大约至大约的厚度。

18.如权利要求2所述的接触件,其中,透明导电氧化物层具有大约至大约的厚度。

19.如权利要求2所述的接触件,其中,缓冲层具有大约至大约的厚度。

20.如权利要求12所述的接触件,其中,粘结层具有大约至大约的厚度。

21.如权利要求9所述的接触件,所述接触件还包括位于阻挡层下方的从由SiO2、SiAlxOy和Al2O3组成的组中选择的APCVD沉积的材料。

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